滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

做工精致，读片性能很好，轻薄小巧携带方便，五星！还可以，价格很便宜了，电脑还是要装一个刻录机的，万一用了还是很方便的

有了镜头，当然还需要光源，光刻机里的光源技术是来自美国Cymer公司

想要产生波长为13.5nm的极紫外光，其实是一个比较复杂的过程

简单来说，就是用20kw的激光，不断轰击从空中滴落的液态锡珠

这些液滴的直径非常小，只有20微米，大概相当于头发丝直径的1/3，并且液滴在真空环境中是处于自由下落的状态

别看转换效率不高，这已经是科学家们经过数次技术迭代，能够实现的最高水平了

先锋刻录机的质量非常好，2004年我家组装的台式机选择的就是先锋台式机刻录光驱，现在还可以正常使用呢。这次主要是给笔记本配置的外置DVD刻录光驱，我再次选择了先锋。这款光驱性能很好，刻录时噪音很小，运行平稳，我非常满意！

好使，稳定性能强大，即插即用，很不错的一款产品，给客户买的，收到包装完好，安装简单，读取速度快，很赞

在美国政府看来，虽然中国出口的中低端芯片不会对美国、韩国以及欧洲等国制造的高端芯片构成挑战，但是中国也凭此占据了产业链中极为重要的一环，如果哪一天中国提高中低端芯片的售价或者限制出口量，一些同处一条产业链上的美欧企业，将会受到极大的影响

光刻机 武汉 9nm

大家都知道，我国的半导体产业这些年的发展速度十分之快，无论是从芯片还是从光刻机方面，我们都顺利的制造出了属于我们的“国货”

但是，我们的国货终究技术有限，目前来说我们与顶级的光刻机制造企业之间还是存在很大的差距，而我们想从国外进口，却又面临到了一个重大难题

很多朋友可能会疑问：“我们进口日本的产品就不怕被限制了吗？”是的，只要是不包含美国技术的产品，我们其实都可以进口，只是看该企业愿不愿意了

在京东买过好多次刻录机，因为用的比较频繁，最满意的就是京东的售后，电子产品一般都会在京东购买。在电子产品这方面，京东是体验最好的网站没有之一。

读盘速度：17首歌大约15分钟内录完.还是挺快的。 读盘声音：声音很轻，完全能接受。 稳定性能：昨天收到后只用一次，中间没出故障。以后再观察一下。 轻薄程度：小巧玲珑，很轻。拿取方便。 外形外观：黑色的，做工精致，细腻，棱角处处理的很优雅。总体很美观。 产品包装：包装盒里边有专用泡沫塑料夹层固定，牢固又防震。而且包装盒也漂亮。

颜值没得说 白色很显质感 刻录速度体感比联想绿联戴尔华硕都要快点 用过的刻录机比较多 这款质感最高 物有所值 用的也开心

日本和美国的芯片行业研发摆脱EUV光刻机的芯片制造工艺，在于采用EUV光刻机的芯片制造工艺成本实在太高了，用于7nm及以上工艺的DUV光刻机价格在3000-5000万美元，而第一代EUV光刻机价格达到1.2亿美元，第二代EUV光刻机价格达到4亿美元

当营收大跌，手头客户需求大减，ASML未来还能继续维持它的全球垄断地位、高额的利润与营收吗？当营收断崖式下跌，它还有足够的投入去维持它的技术研发优势与技术升级迭代吗？这很难，但这是ASML当前也无力解决的现状

先锋外置刻录机很快到货，还没试用。以前买过好几台先锋光驱和刻录机，挺好用。不是第一次买了，这个品牌真是刻录机中的第一品牌，上一个用了5年，终于到年头可以换了，好用的很！好评！

刚收到货，装上后刻了一张，很好。原以为先锋DVD内置刻录机停产了。现在看来是谣传，从机子上看是今年5月出厂的。

武汉电子厂光刻机

值得大家注意的是，目前NIL技术，基本上都是日系厂商掌握，并不需要依赖美国、欧洲等的产业链，也就是说NIL光刻机，日本一旦生产出来，可以不听美国的，不受美国的长臂管辖，也意味着佳能一定生产出来，是可以卖给中国的

以前台式机用的就是这个品牌的光驱，老品牌值得信赖。读写速度还不错，比较薄，也不占地方，刻录的功能还没试，应该不会差到哪里去。很满意。

读盘速度：一如既往的快 读盘声音：一如既往的的轻 轻薄程度：比老款略缩短1CM 外形外观：中规中矩的四方 稳定性能：读写很稳定 产品包装：比之老款，包装略简单，且无NERO光盘附赠。

不过美国可不想看到这情况，于是便利用政治手段，试图切断中国与阿斯麦之间的正常生意往来

而美国同时还对本国企业进行限制，更是出台法案禁止美国企业向中国出售部分芯片

不过中国这么庞大的市场，这么大一块蛋糕，作为商人肯定不会就此放弃

武汉研究光刻机

读盘速度：读盘速度很快，加持USB3.0。 读盘声音：运行比较安静，比其他声音小点。光盘质量也有影响。 稳定性能：稳定性强，底部防滑。 轻薄程度：轻薄小巧。能放电脑包。 强制开机按钮很惊艳，强制开盖也不用到处找针了。手轻轻一拨就开了，方便极了。

京东快递真快，为什么没塑封，是消毒吗，made in china。外表完好，一会儿试试吧，非常轻，都1000多了，AC适配器也不给一个

光刻机 武汉 9nm

比利时IMEC实验室公布2纳米以下制程量产时间节点首台高NA光刻机将入驻IMEC-ASML联合实验室IMEC和ASML的联合实验室将在2023年安装第一台高NA EUV光刻机系统；这是近十年光刻机发展历史上的一个里程碑的进展

而台积电2021年拥有EUV光刻机近80台，这80台EUV光刻机直接用电8亿度，再加上间接用量（散热等设备），仅光刻机相关用量就超过10亿度，占到这191.9亿度电的5%+

考虑到台积电还在不断的推进5nm、3nm，需要更多的EUV光刻机，未来这个耗电量还会增加

更重要的是，EUV光源能量转换率为0.02%，另外的99.98%电能会变成热量散发出去，又需要大量的设备来降温散热，这又要耗电

台积电的数据显示，2021年能源消耗量为191.9亿度，约占台湾的7.2%