滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

商品经济实惠，质量很好?，什么光盘都能读写，物流速度快，太给力了。收到了，开了用过了，很棒速度很快

面对今天的困境，人们可能很难想象，中国不仅曾经独立研发出光刻机，把与美国的差距缩短到只有7年，而且还是在国外对我们封锁禁运的情况下完成的

今天，我们还能做到吗？1开局新中国成立之初，百废待兴，全国科研人员加起来不过5万人，难以满足建设需要

步进光刻机光刻工艺参数的优化

先锋光驱，很多年的老品牌，用过一个先锋外置光驱，这次装机还是在京东选购一台内置先锋DVD刻录机，已装上，读盘很好，刻录功能还末试。

再者，半导体产业早就全球化了，荷兰能造出最先进的光刻机是不假，可该领域约九成的关键原材料，都需要对华进口，并且短期内找不到替代者

换言之，两国是有能力互相“卡脖子”的 ，不存在谁虚谁，如果荷兰非要走极端的话，我们出手反制时，也能让他们感觉到疼

是正品，速度快，刻盘稳定，稳定才是王道，不会坏盘，很满意。买给客户的，对方很满意，刻录速度比较快，声音小，很实用

频率高了，就意味着芯片跑得更快

据说这样的光刻机可以加工13 纳米线条

我们的头发丝直径大约是 50~70微米，换言之，这种光刻机可以刻画出只有头发丝直径1/5000的线条

目前世界上最先进的光刻机是荷兰ASML公司生产的极紫外光刻机（EUV）

读盘速度：读盘速度非常快，即插即用读盘声音：声音小。临时要用，上午下单京东下午就送到了，非常方便。但凡装机几乎必选先锋光驱，用了很多年了，质量一直都很稳定。话说包装设计得蛮漂亮的

杭州光刻机系统基地

读盘速度：十分快 读盘声音：小 稳定性能：十分不错 轻薄程度：刚刚好 外形外观：美观 产品包装：很好

这玩意有多复杂？一台EUV光刻机重达180吨，零部件高达10万多个，超过2公里以上的软管，需要40个集装箱来运输，仅安装调试就需要一年左右

而且85%以上的材料，都来自全球超过5000家供应商

比如它里面就用到了德国的蔡司镜头，日本的特殊复合材料，瑞典的精密机床，美国的先进控制软件、光源等，都是业内顶尖的技术水平

先锋刻录机，15年了 始终在用这个牌子 真心好用。还不错！14年的老电脑！就机箱和光驱没有换过啦！这次还换先锋的光驱！物美价廉

NSR-S635E光刻机 / 尼康虽然这样的机器在分辨率上与ASML的EUV光刻机还存在着不小的差距，但已经足以覆盖不少成熟工艺的晶圆制造，以及部分次先进节点的辅助制造了

而在去年的SPIE先进光刻机技术会议上，尼康展示了名为双光束EUV光刻技术

京东购物真方便，一直购买中 读盘速度：超快，识别光盘也不错，兼容性能超好。 外形外观：黑色，自用真好，看着舒服。。 轻薄程度：小巧轻便，放在笔记本包里也正好，方便我带出去 产品包装：京东物流快，包装也好，没有损坏，给快递师傅点赞。 读盘声音：读盘声音轻，能接受。

日本和美国的芯片行业研发摆脱EUV光刻机的芯片制造工艺，在于采用EUV光刻机的芯片制造工艺成本实在太高了，用于7nm及以上工艺的DUV光刻机价格在3000-5000万美元，而第一代EUV光刻机价格达到1.2亿美元，第二代EUV光刻机价格达到4亿美元

日本开发的NIL工艺是全球第一项无需光刻机的芯片制造工艺，此前已被铠侠用于存储芯片生产，此前日本方面就预计NIL工艺将可以演进至5nm，到去年底日本已将该工艺突破10nm，到如今不到1年时间又突破到5nm，可谓进展神速

大品牌都是值得信赖的，刻录很稳定，读盘基本没有声音。。真的是即插即用，小巧好看，驱动非常快速，播放顺顺利利的，刻录也非常给力，我第一张就刻录就成功了，太顺利了吧！好东西！

不过据称，NXE:3600D型号的EUV光刻机，支持的工艺可能仅到3nm，如果要制造2nm的芯片，光刻精度还要提升，需要新一代的High-NA极紫外光刻机才行

而光刻精度怎么提升，就是数值孔径的提升了， 前几代光刻机，比如3400B/C、3600D的数值孔径都是0.33NA的，解析度（精度）为13nm，单次构图间距为32nm到30nm

点单位光盘。以前就用的先锋的。品质非常好，用了好多年了，所以这厮继续购买。商品应该不错。待会儿去试用，用好了再来评价。希望这个产品也好，哪，有一些优惠活动。这样。可以在购买很多。另外价格教师再降点就好。

质量很好，很好用，值得购买，会继续光顾，物流很给力。使用非常方便，刻录非常容易，效果非常不错，很好用

很好。安装好后一点就亮！先锋的就是好用！不挑碟的机子！一直信赖着。还以为它不会出新产品了呢！?赞！

当初不怎么在意，是因为影响并不是很大，但现在来看也足够说明在某些规定上ASML是不得不遵守的

而且，都在说中国市场对于ASML很重要，也只是15％的市场份额

关键是，在得知有可能被限制DUV光刻机出货的时候，ASML在随后就加码布局了韩半导体市场，还在台积电本地区进行了扩建的行动等等

光刻机设备工程师前景

颜值没得说 白色很显质感 刻录速度体感比联想绿联戴尔华硕都要快点 用过的刻录机比较多 这款质感最高 物有所值 用的也开心

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ASML此前愿意遵从美国的要求，就在于受美国影响的三星、Intel和台积电还能持续为它提供丰厚的收入，然而这些芯片企业如今都在收缩，台积电更计划明年的资本开支减少资本开支80亿美元，这些企业无法为ASML提供更多收入了，ASML为了生存就只能自己找市场，如此它反水也就在情理之中

目前最先进的光刻机分为两种:EUV（极紫外光）和DUV光刻机（深紫外光），极紫外光刻机的波长是13.5nm，而合理制程为3-7nm，光刻机最重要的是投影就是通过光将电路图案通过镜片放大投影到硅片上（跟平常上课用的投影仪一样），但是极紫外光很难获取到，要通过特殊的手段，首先是光源，极紫外光在电磁波光谱中属于短波，在光刻机中使用193nm的光源变成13.5nm的光源，一直困扰科学家多年，直到一位科学家提出通过击打锡滴来获取更短的波长，但是由于光刻机的光源通过各种反光镜的传输，实际收到的光源强度只有2％，所以有科学家提出击打两次来提高光强