光刻机是芯片制造环节的一种关键设备,在芯片的工艺制程上,也主要是由光刻机来决定的
根据芯片制造环节的不同,可以分为前道光刻机和后道光刻机,ASML的优势在于前道光刻机,而我国上海微电子的优势,则是后道光刻机
其中决定芯片制程的就是前道光刻机,所以由于ASML使用了部分老美的技术,因此EUV光刻机就受到修改芯片规则的制约,无法出货大陆中企
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所以对于ASML来说,让DUV光刻机也去适配修改后的芯片规则,没有任何意义,只会是让ASML丢失大量的市场和营收