尽管后来尼康和佳能碰得头破血流,终于攻破了157纳米干式光刻技术,但是当他们反应过来的时候,干式光刻机已经没有任何市场优势
所以从2005年之后,他们的市场份额不断被ASML吞食,目前尼康和佳能在高端光刻机市场上完全已经不是ASML的对手
面对这种局面,想要解决光刻机技术难题就只能靠我国自己了,不过过去十几年我国在光刻机研发上也投入了很多,但是取得的效果并不是很明显
目前我国国产光刻机最先进的是由上海微电子设计出来的28纳米光刻机,而且目前还没有正式量产,这跟ASML的EUV光刻机差距是非常大的,跟他们即将量产的新一代EUV光刻机差距更大