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不只光刻机

物流很快，东西也不错。。。目前读盘很好，刻录还没有用呢，手头没有空白盘。。还是内置的刻录机稳定速度快。。。非常好用 看了说明书就知道了 操作简便易学 非常好用 看了说明书就知道了 操作简便易学

非常好，读碟很快，刻录速度快也很稳定，送货神速。好评！先锋刻录机，装进去马上能用。老品牌值得信赖！和我的酷冷至尊机箱很匹配。

虽然先进工艺用最短的时间解决了芯片性能的问题，但是很快，新的问题也暴露了出来，那就是成本，先进工艺无论是从芯片的设计还是制造，成本都成倍的提升，这种提升的幅度，即便是全球顶尖的芯片巨头，也都难以承受，例如苹果

也就是说如果要制造1.8nm以下的芯片，可能EUV光刻机就无法胜任了，要推出全新一代技术，至于是什么技术，目前业界还没有定论

目前美国有公司推出了EBL电子束光刻机，可以生产0.768nm的芯片，但无法大规模量产

而俄罗斯在研究X射线光刻机，没有光掩模板，直接光刻，据称可以用于1nm芯片，但没有样品出来

之后理论上数值孔径还能够再提升，比如达到0.7等，但已经没太多必要了，非常不值得，因为成本太高了，难度太大，估计0.55NA就是顶点了

而0.55NA数值孔径的EUV光刻机，其处理极限可能也就是2nm、1.8nm左右，而INTEL也计划用它在2025年左右，量产2nm、1.8nm的芯片

更何况，半导体行业已经走上了全球化的道路，荷兰虽然有最好的光刻机，但也有九成以上的原材料，需要从中国进口

也就是说，中国跟荷兰两国之间的关系，其实是对等了，双方都有“卡对方脖子”的能力

假如荷兰政府想走极端的话，那我们也可以管控原材料的出口，让他们吃点苦头

日本光刻机生产企业

实际上，荷兰已经够给拜登面子了，至少他们已经明确表示了，最先进的光刻机是不会销往中国的

可要知道的是，中国在中低端的光刻机上，已经取得了突破，如果荷兰不趁着这个机会，尽快将产品销往中国的话，那时间再长一点，中国也未必会买了

美国在今年7月上旬就曾向荷兰施加压力，禁止向中国出售相关的光刻设备

阿斯麦公司（ASML）的CEO早就曾表示“这是一项成熟的技术”，不愿向中国禁止销售DUV光刻机

而就在今天，荷兰光刻机巨头ASML的CEO温彼得又一次表示，中国市场至关重要，若是美国命令荷兰禁止向中国出售相关的光刻设备，全世界范围内的半导体市场供应链将会中断

在京东买过好多次刻录机，因为用的比较频繁，最满意的就是京东的售后，电子产品一般都会在京东购买。在电子产品这方面，京东是体验最好的网站没有之一。

中国光刻机主要靠这家企业

一直用先锋刻录机，09年卖的刻录机现在读片困难了，只能换新了。新机很好，价格便宜，满意，性能很好，不但能够读光盘还能刻录光盘，非常的实用，孩子学校发的光盘可以使用了

600台DUV光刻机!ASML公司正式宣布

值得一提的是，ASML公司多次示好中国市场，且先后在国内建立了14个办事处、2个研发中心、1个维修中心以及11个物流中心，且还多次表示要扩招中国员工

中国也拥有了高性能的第三代大推力涡扇发动机

按照这些人，凡是中国搞出来的都不算高科技的理论，那大推力涡扇，从此也就被开除出高科技行列了

但中国航空发动机的发展并没有就此止步，反而继续夯实基础，全面开花

11月初，北京航空材料研究院实施的航空发动机关键构件抗疲劳寿命试验突破5万小时，标志着我国高端装备制造技术取得全新突破

读盘速度：读盘速度很快，并且很稳定。 读盘声音：声音有一些读盘机械转动的声音不是很大。 稳定性能：性能稳定可靠。大品牌的东西一直在用。 轻薄程度：台式机装机内置光驱的性价比最高的大品牌经典产品。是标准内置光驱的大小。 外形外观：金属外观，结构结实。 产品包装：产品包装牢固可靠完好。内置减震泡沫，防止磕碰。新款产品外包装印刷图案区别于老款。

光刻机激光成像技术

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刻录机一直买先锋，刻盘成功率高，废盘很少，买刻录机就买先锋。这款刻录机外观简洁大气，做工很好，使用也非常好，读取刻录都很棒，还没刻过坏盘！

也就是说，28 nm的光刻机是可以预期的，根据 ASML的发展历程来看，28 nm到10 nm的光刻机，最快也要5年，28 nm是光刻机的关键点，而28 nm是最重要的环节，也是最好的选择，也是最好的选择，只要能将28 nm以上的技术全部攻克，那么接下来的提升就简单多了

ASML怂了

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荷兰光刻机对日本的冲击

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中国企业公布EUV光刻机专利对ASML影响有限

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其中ASML是最牛的， 特别是EUV光刻机，仅ASML一家厂商能制，可以说ASML卡住了全球先进晶圆厂的脖子

但事实上，除了EUV光刻外，ASML在DUV领域的光刻机，也是一顶一的，全球没有对手

如上图所示，这是机构统计的2021年全球半导体前道光刻机销售情况表，上面列出了3大巨头，在各种光刻机上面的销售数据

而DUV光刻机又分为ArFi光刻机，用于45-7nm；而ArF Dry用于65nm，还有KrF用于180nm等等

目前全球的光刻机厂商，真不多，特别是用于芯片制造的，也就是前道光刻机，全球也就四家，分别是ASML、日本的佳能、尼康、上海微电子