众所周知,目前主流的光刻机主要有两种:一种是极紫外线EUV光刻机,用于7nm及以下的芯片光刻;另外一种是DUV光刻机,称之为深紫外线光刻机,主要用于10-130nm光刻机,只有ASML能生产
尽管DUV光刻机不是最先进的,但在多重曝光的情况下,最高也能做到10nm制程,由于无需获得美国出口许可证,相关产品一直正常给长江存储,上海华虹等厂商供货
刻蚀机和光刻机的区别知乎
读盘速度:读盘速度很快 读盘声音:读盘运行声音很轻不注意听几乎听不到声音 轻薄程度:宝贝很轻巧,拿在手上没多少重量 外形外观:外观大气,很喜欢