虽然仍在概念阶段,但从论文上看基于该技术打造的光刻系统可以做到10nm的分辨率,0.4的数值孔径和200晶圆/小时以上的吞吐量,这样的参数甚至可以与ASML正在制造的高NA EUV光刻机一较高下了
不过要想造出这样的机器光有概念可不够,与之相关的元件与设备生态都得建立起来才行
FPA-6300ES6a光刻机 / 佳能佳能与尼康一样,同样拥有影像和光刻机两大业务,但在光刻机上,佳能的主要产品是i线和KrF光刻机,其中主打高分辨率高产量的KrF扫描光刻机FPA-6300ES6a可以做到小于等于90nm的分辨率