两镜头光学到六镜头光学系统的差距如前文所述,德国蔡司2003年推出两镜头EUV光学系统后,3年内推出了六镜头的ADT验证机
所以,蔡司的MET光学并非欧洲的光学制造能力的上限,而长春光机所的MET曝光工具则是在采购了欧洲先进制造工具、设计工具基础之上,几乎代表了中国当时在EUV研发上的能力上限
ASML NXE:3300 极紫外 EUV 光刻机,具有数值孔径 NA0.33 的极紫外光学曝光系统王丽萍教授的极紫外光刻研究王丽萍教授的主页王丽萍教授目前是中科院大学的博士生导师,在她的主页上,我们可以看到她参与了02专项的极紫外光刻研究