滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

刚收到货，装上后刻了一张，很好。原以为先锋DVD内置刻录机停产了。现在看来是谣传，从机子上看是今年5月出厂的。

物流快得惊人，头一天下午下单第二天早上就到了，神速啊，送家里了，下班后试试产品会追评。

款式很时尚，刻录速度非常快，效果很好，以后还会再来购买。宝贝与描述基本一致，发货很快，值得一买 刻录速度效果相当的好

这些光刻机知识您得知道

华为公布计划后，ASML怂了也许大家对此并不熟悉，尽管荷兰 ASML公司占据了日本的一部分市场，尼康、佳能等公司占据了一定的份额，但由于国内的竞争越来越激烈，美国的公司也相继破产，被兼并，最后才有了 ASML、尼康、佳能三家公司的格局

读盘速度：读取速度超级快4K蓝光整盘读取最快5分钟搞定！ 读盘声音：静音效果好，不会出现明显共振和跳盘及其他杂声噪音问题出现。 稳定性能：支持UHD 的4K蓝光盘读写！这点非常棒，是我买这款光驱最重要的原因。稳定性非常好，连续读写不降速。 轻薄程度：正常5.25光驱位或者移动光驱盒都能非常完美安装。 外形外观：外观漂亮，新款带类钢琴烤漆面的一体式面板，比老款好看很多。 产品包装：包装精致，不知道是不是因为是国内总代的关系，所有一次性封贴都是索厉的。

此前清华大学机械工程系朱煜教授带队的清华大学研发团队就已研发出光刻机双工作台，由此中国成为全球第二个可以生产双工作台的国家；此外激光头、镜头等厂商也陆续生产出先进的组件，各个产业链企业的努力正逐渐完善国内的光刻机产业链

先锋dvd刻录机，多年的老品牌，刻录光盘，读写光盘速度快，稳定性好。可以满足日常读取或者刻录dvd光盘的需要，产品包装对刻录机的保护也很到位，避免了运送途中磕碰对刻录机的伤害，价格也很便宜，是一款高性价比的刻录机。

还行，挺不错的，之前公司的让我弄坏了，自己买了一个赔给公司。测试了所有功能，一切正常。还有京东快递小哥一如既往很快，态度也很好，好评！

分析认为，荷兰高级官员的表态说明，荷兰不愿一味地顺从华盛顿切断中国半导体技术供应的企图

需要说明的是，阿斯麦的机器是在欧洲生产的，很少使用美国的零部件

根据阿斯麦的财报，中国大陆是其全球第三大市场，该公司2021年在中国大陆的销售额超过20亿欧元，约占其总销售额的16%

买来用上了，很合适，这是我第二次买这个刻录机。很是信任。 读盘速度：很快 读盘声音：声音较小。 稳定性能：刻盘很方便。 外形外观：外形包装也很美观简约等等。反正就是喜欢。

京东快递真快，为什么没塑封，是消毒吗，made in china。外表完好，一会儿试试吧，非常轻，都1000多了，AC适配器也不给一个

装上去试了一下。运转声音很静，读碟很快，比以前那个好多了。好用，以前一直都是喜欢用先锋刻录机，非常好用，京东购买，还便宜，性价比高。

我们现在的国内半导体行业，急需要一台主流水平的光刻机去助力我们的芯片制造

那么佳能的光刻机，会不会受到美国的限制？这个问题的答案还是个未知数，不过能确定的是，美国对于佳能产品的限制，要比对asml公司的限制更小

读盘速度：先锋存储名不虚传啊，原来用的也是先锋的，用了有10年，终于退休了 读盘声音：声音很小，几乎听不到 稳定性能：稳定性超强，刻录CD非常快，音质也超棒 轻薄程度：外置光驱吗，都一样薄厚，没有太厚的 外形外观：外观就是比原来的降了档次，原来的机器都是金属外壳，现在的是工程PVC的，更轻一些 产品包装：产品包装结实，原封装，没动过，全新

美国在今年7月上旬就曾向荷兰施加压力，禁止向中国出售相关的光刻设备

阿斯麦公司（ASML）的CEO早就曾表示“这是一项成熟的技术”，不愿向中国禁止销售DUV光刻机

款式很时尚，刻录速度非常快，效果很好，以后还会再来购买。宝贝与描述基本一致，发货很快，值得一买 刻录速度效果相当的好

外包装没有温謦提示封条。读盘还快，刻录dvd光盘5分多就刻好了。包装完整，安装方便，装好以后读盘速度很快，很不错的一个光驱，值得购买

中国也拥有了高性能的第三代大推力涡扇发动机

按照这些人，凡是中国搞出来的都不算高科技的理论，那大推力涡扇，从此也就被开除出高科技行列了

但中国航空发动机的发展并没有就此止步，反而继续夯实基础，全面开花

ASML主要处于中游，就是将上游的这些核心厂商、核心元件聚拢，然后自己再组装成一台光刻机

而下游则是台积电、三星、英特尔这三家，这三家为了支持ASML，曾入股ASML，成为ASML的股东，形成了利益共同利

所以很明显，ASML是将全球最顶尖的企业，都拉到了自己的阵营中，其它光刻机企业，要想制造出EUV光刻机，一是从ASML这撬墙角，将核心供应商撬走，但这太困难了

ASML 光刻系统的发展一直是通过减少波长和增加数值孔径来进行演进

目前，ASML 的主力产品是 0.33NA EUV 光刻机，并正在大批量生产中

对于 0.33 NA 系统，ASML 正致力于通过增加吞吐量和降低总能量来减少每次曝光所需的能量

未来比 3nm 更先进的工艺，将极度依赖高 NA EUV 光刻机

ASML 首席执行官 Peter Wennink 表示：在高 NA EUV 方面，我们取得了良好的进展，目前已经开始在我们位于维尔德霍芬的新无尘空间中打造第一个高 NA 光刻

很好用，而且用了一段时间了还没坏，我们经常用，也经常会用坏，所以买这个很划算 稳定性能：好

而近日，ASML方面又做出了新的计划，其表示将在2025年实现600台DUV的生产能力，但EUV光刻机只有90台，其高NA EUV光刻机，则是到2028年实现20台的产能，可以看到在产能上的对比强烈，DUV的产能是EUV的近七倍，是高NA EUV光刻机产能的至少30倍

更关键的是，ASML可不是没有自己的担忧，我们国产光刻机也在快速发展，之前ASML方面就已经表示，物理定律在荷兰与在中国是一样的，也就是说，ASML可以利用物理定律制造出先进光刻机，我们也能，只是时间问题，如果ASML不抓住这个时间窗口，一旦窗口关闭，那么再想进来可就难了，如果您觉得说得在理，感谢给个点赞和在看