滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

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而0.7nm，差不多相当于2个硅原子的宽度，也是理论上硅基芯片的最高精度，所以很多人认为，当芯片精度达到了1.8nm以后，可能EUV光刻机也不行了，要使用Zyvex公司研发出的这种光刻技术了

Zyvex公司的光刻技术，是啥技术？其光刻系统命名为为ZyvexLitho1，是基于STM扫描隧道显微镜，使用的是EBL电子束光刻方式，与极紫外线没有任何关系，称之为电子束光刻机，可能更合适一点

产芯片装备材料光刻机的企业

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三星的3nm工艺表现较好，但是三星的3nm工艺在良率方面却比台积电更低，导致成本奇高，失去经济价值

同时全球芯片行业已步入下行阶段，芯片企业为了节省成本均不愿采用先进工艺，高通就已确定将从只拥有14nm及成熟工艺的格芯采购76亿美元的芯片，这都导致台积电等芯片制造企业失去了研发先进工艺的动力

近期光刻机巨头ASML频频向中国芯片释放善意，与此前的态度截然不同，让人摸不着头脑，直到近期它的高管发言或许能解释这一原因，中国市场已成为它最后的蛋糕了，能卖一台赚一台

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对荷兰来说，就是加大限制光刻机的出售控制，由此前的禁售EUV（极紫外线光刻机）扩大到深紫外线光刻机(DUV)，而前者可生产7纳米以下芯片——目前最先进手机所应用的尖端产品，后者只能生产7纳米以上的芯片——多用于落后手机或汽车等所使用的产品

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　　据美国彭博社7月6日的报道，有知情人士透露，美国正在向荷兰政府施压，要求半导体制造商ASML公司禁止对华出口生产全球大量芯片所需的主流技术——从最先进的EUV扩展至相对成熟的DUV，试图通过卡芯片制造的“喉咙”遏制中国崛起的步伐

正是由于成本问题，日本、美国的芯片行业才寻求发展无需EUV光刻机的芯片制造工艺，降低成本

此前ASML顺应美国的要求不对中国出售EUV光刻机，今年下半年更进一步连14nm以下的DUV光刻机都不对中国出售，然而如今日本和美国都绕开EUV光刻机，将彻底颠覆ASML的主业--光刻机业务

无独有偶此前美国的芯片企业美光也成功研发出了无需EUV光刻机的1β(1-beta)制造工艺，显示出美国芯片企业也意图摆脱对ASML的依赖，其实美国芯片业界对ASML的打击并不止于此，它们甚至在挖ASML的根

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而在精度方面，90nm肯定没问题的，同时经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以达到22nm左右的水平

那么能不能四次曝光，五次曝光，将精度提升上去？事实上，在实际使用中，2次曝光就已经很厉害了，像ASML等的光刻机 ，大多也只是进行2次曝光

随着全球芯片市场出现短缺以后，国产芯片产业链就迎来了大爆发，而我国作为全球第一大的芯片消费市场，每年都要从国外进口超万亿规模的芯片，只要有国内市场加快发展，并努力实现自给自足，那么有这万亿级大市场的支持，我们何愁中国半导体发展不起来呢？不知道对此你是怎么看的呢？

中国能造出多少纳米光刻机

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在美国政府的资本补贴+政治大棒威胁之下，全球主流的半导体公司，尤其是有芯片代工能力的公司——包括英特尔、三星和台积电，都陆续宣布了在美国的晶圆厂建设计划

还是熟悉的建厂，还是熟悉的缺光刻机

于是，缺芯与政治博弈的双重共振，让阿斯麦交出了史上最漂亮的一份财报：2021年营收186亿欧元，净利润约59亿欧元，同比增长66%

当然，硅基芯片，也不需要这种电子束光刻机，这么高的精度更多还是用于量子计算芯片，制造出一些高精度的量子器件，纳米器材等

另外就是，EBL电子束光刻机，产能非常低，至少在目前大规模制造芯片也不现实，只能小规模的制造量子计算的芯片，至于未来能不能技术改进，提高产能，进而取代EUV光刻机，还不清楚

中国制造芯片需要的光刻机

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