读盘速度：8倍速，速度一点也不卡顿。先锋在光存储领域有着多年研发经验,是做刻录机的大品牌。 读盘声音：声音不大，外接放置也很稳。 轻薄程度：轻薄，手感很好。 外形外观：黑色磨砂质感，看起来稳重显高级。 产品包装：盒子里有防震保护，盒子外面套塑料袋，干净。 快递速度特别快，从下单到拿到手，只用了不到5个小时。
当然，ASML肯定不会承认是怕别的技术或厂商抢了市场，只说自己是看到市场需求过大，供不应求，所以才扩产的
但事实是，当一个市场，只有一家企业能提供产品时，这个市场就是被垄断着的，所以ASML就算再增加产能，也一定会有其它厂商有其它想法
外包装很精美，比联想db75好多了。先前用db75太久了，光头有点灰尘，抓出来的音频有问题，换了之后就好多了。目前没问题，各方面都很好。eac上可以直接查到偏移值，好用！
2005年美国加州伯克利劳伦斯实验室的NA0.3的MET工具这篇论文给出了一份测试结果，展示了30nm和25nm的等线宽线距（L/S）的曝光能力，可以看到30纳米等L/S曝光结构非常清晰
而曝光28.8纳米的独立线条，仍可以获得非常高精度的曝光图案
两镜头光学到六镜头光学系统的差距如前文所述，德国蔡司2003年推出两镜头EUV光学系统后，3年内推出了六镜头的ADT验证机
不过今年以来，芯片需求有所下滑，包括智能手机芯片出货量持续降低，导致台积电被客户砍单，不得已关闭数台EUV光刻机
这种情况下ASML的正常举措应该是控制光刻机的产能，但ASML却大量提产光刻机
根据ASML公布的计划显示，会在2026年之前将DUV光刻机年产能提升至600台，EUV光刻机90台
”另一层意思就是会继续向中国出售光刻机
美国向将限制出货范围扩大到DUV光刻机领域，但这部分光刻机属于成熟制程，来自荷兰的本土化技术占比较大
专门咨询计算机的朋友选的这款，很好用，速度很快，也没什么噪音，价格也公道，京东送货也超快，不耽误时间，很满意！
读盘速度：非常不错！ 读盘声音：声音小！ 产品包装：包装不错！ 外形外观：外观好看！ 稳定性能：稳定好！ 轻薄程度：合适！
国际品牌日本先锋，光储存行业老牌巨头出品的入门级内置式DVD刻录机，兼容CD、VCD、DVD读取，CD-R、CD-RW写入，DVD-R、DVD RW双层写入，读盘性能稳定，迅速安静，后背为铝制外壳，非常坚固，还附带安装螺丝，非常高性价比的一款DVD刻录机！强烈推荐！
众所周知，目前最顶尖的光刻机是ASML的EUV光刻机，能够制造3nm的芯片
且在ASML的规划中，到2024年或2025年会交付全新一代的High-NA极紫外光刻机
这种EUV光刻机，数值孔径变为0.55NA，也就是解析度（精度）为8nm，可以制造2nm，以及1.8nm的芯片
第三次在自营店里头买这款刻录机了，非常好用，第一台17年买的到现在还在使用哦，真是耐用啊，虽然只能刻CD了，这台买着备用，自营的质量就是放心，比**的货强多了！
京东的物流很快，主板的质感很好，感觉的出来做工很精良，目前还没有装机，一直用先锋刻录机很好
因为实践表示，3次曝光会导致良率大幅度下降，4、5次良率可能会低到没法想象，晶圆厂们的成本高到没法承受，不如买一台更高级光刻机，成本还低一些
所以，目前国内在努力的研发28nm的光刻机，这样经过两次曝光后，可以搞定14nm，至于7nm工艺，那最好还是期待EUV光刻机，用28nm的来曝光三次，良率没法看
不过也有人称，光刻机所指的精度，并不是指能制造芯片的精度，光刻机可以通过多次曝光，提升分辨率的，那么问题就来了，上海微电子的90nm光刻机，最多能生产多少纳米的芯片？据资料显示，目前上海微电子的90nm的光刻机，主要用于电源管理芯片、LCD驱动芯片、WiFI芯片、射频芯片、各类数模混合电路等
读盘速度：快， 外形外观：漂亮 读盘声音：很轻 稳定性能：目前使用稳定性好 产品包装：包装精致
第三次在自营店里头买这款刻录机了，非常好用，第一台17年买的到现在还在使用哦，真是耐用啊，虽然只能刻CD了，这台买着备用，自营的质量就是放心，比**的货强多了！
8月15日，美国商务部正式将金刚石、氧化镓两种半导体材料、用于GAAFET架构集成电路所必须的ECAD（EDA）软件、用于燃气涡轮发动机的压力增益燃烧技术加入到商业管制清单
而0.7nm，差不多相当于2个硅原子的宽度，也是理论上硅基芯片的最高精度，所以很多人认为，当芯片精度达到了1.8nm以后，可能EUV光刻机也不行了，要使用Zyvex公司研发出的这种光刻技术了
Zyvex公司的光刻技术，是啥技术？其光刻系统命名为为ZyvexLitho1，是基于STM扫描隧道显微镜，使用的是EBL电子束光刻方式，与极紫外线没有任何关系，称之为电子束光刻机，可能更合适一点
按照Zyvex的说法，这台ZyvexLitho1是可以商用的，还可以接受别人的订单，具体多少钱一台，不清楚，但机器对方可以在6个月内出货
用于大批量制造，以创建先进的微芯片（7 nm、5 nm 和 3 nm 节点）高度复杂的基础层，并支持新颖的晶体管设计和芯片架构
日前，在 2022 SPIE 高级光刻会议上，ASML 介绍了 EUV 的最新进展
根据 ASML 最新消息，新款 EUV 光刻机正在研发中，NA 将从 0.33 增加到 0.55（NA 是光学系统的数值孔径，表示光线的入射角度），2nm 工艺的芯片都将依赖其实现
在发力 0.33 NA EUV 光刻机的同时，ASML 也在冲刺研发 0.55 NA EUV 光刻机
新开办公司，之前配置过四台，这一次配了一台全是办公高配的，物流快，发票齐全，自己组装价格质量也还放心，希望京东无假货！上个全图吧。组装花了两小时。一次点亮。
发货速度快，包装严实，刻录机做工很精致，装上很好用，就是没有送刻录软件。替换了原来的内置光驱，完美安装上后，开机自动识别，无需任何操作（win7）
之前自己买了一个，用着特别好，单位也买了一个，存储容量大，数据备份。速度很快还很稳定。不错得选择，比我之前用的那个快多了，
Powered By 滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心
Copyright Your WebSite.Some Rights Reserved. 鲁ICP备2022038746号-7