试图遏制中国芯片产业发展
光刻机最大的研制难度在于精密,制造过程中任何环节的差错都会导致光刻机运行出现问题,这也就间接的导致生产出的芯片不合格,而小到手表、手机,大到航空领域,没了芯片做支撑点,甚至于都开不了机,环环相扣的重要性让光刻机成为了半导体工业最关键的设备
给单位同事购买的商品,没有反馈说不好用,肯定是很好用了!非常好,正品,刻录机只用先锋,完美的使用感受
光刻机最大的研制难度在于精密,制造过程中任何环节的差错都会导致光刻机运行出现问题,这也就间接的导致生产出的芯片不合格,而小到手表、手机,大到航空领域,没了芯片做支撑点,甚至于都开不了机,环环相扣的重要性让光刻机成为了半导体工业最关键的设备
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先锋蓝光刻录机非常好,物美价廉,很实用,物超所值,质量还是不错的,刻录很方便,三步就像U盘一样,直接拖拽就可以刻录了,不需要非常麻烦的操作,也不需要下载刻录软件,而且可试用的光盘范围比较宽广
美国在今年7月上旬就曾向荷兰施加压力,禁止向中国出售相关的光刻设备
阿斯麦公司(ASML)的CEO早就曾表示“这是一项成熟的技术”,不愿向中国禁止销售DUV光刻机
而就在今天,荷兰光刻机巨头ASML的CEO温彼得又一次表示,中国市场至关重要,若是美国命令荷兰禁止向中国出售相关的光刻设备,全世界范围内的半导体市场供应链将会中断
光驱外观好看,包装店家很用心,上机试了一下,读取光碟内容很快,播放没有卡顿,特意用了几天才来评价,希望对大家有所帮助 读盘速度:快 读盘声音:没有声音 稳定性能:非常稳定 轻薄程度:非常薄 外形外观:漂亮,高档大气上档次 产品包装:完美
而0.7nm,差不多相当于2个硅原子的宽度,也是理论上硅基芯片的最高精度,所以很多人认为,当芯片精度达到了1.8nm以后,可能EUV光刻机也不行了,要使用Zyvex公司研发出的这种光刻技术了
Zyvex公司的光刻技术,是啥技术?其光刻系统命名为为ZyvexLitho1,是基于STM扫描隧道显微镜,使用的是EBL电子束光刻方式,与极紫外线没有任何关系,称之为电子束光刻机,可能更合适一点
大家都知道光刻机是芯片制造过程中,最重要的设备之一
但大家不清楚的是,光刻机也分前道光刻机,后道光刻机两种
前道光刻机,主要是指将芯片电路图,光刻到硅晶圆上的光刻机,也就是芯片制造的前道工序号需要的光刻机,也称之为前道光刻机,其中又分EUV光刻机、DUV光刻机,UV(i-line)光刻机
这款自营的先锋刻录机最新升级版本,24倍的刻录速度。先锋的刻录机质量还不错,以前经常使用先锋的刻录机,机器性能稳定耐用,这次帮朋友选刻录机,正好看到京东这款升级版的刻录机,果断下单拿下。京东自营的产品送货速度很快,自营的产品质量还是有保障的,五分好评!
读盘速度:8倍速,刻录DVD筋速度比较快 读盘声音:静音,不错 稳定性能:用了2个月,没有发现问题,以前给朋友买过,用了5年还在用 轻薄程度:很轻薄,轻巧,很薄 外形外观:黑色,真心不错,好看 产品包装:简单实用 京东商城非常给力,送货上门非常快,快递哥服务态度好,热情周到。
商品质量不错,物流也很快,好评。满意,静音,速度快,稳定。非常满意
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而前道工序更是重点,有至少8个工序,分别是扩散、薄膜沉积、光刻、刻蚀、离子注入、CMP抛光、金属化、测试
而这里也要用到各种设备,众多的材料,光刻机只是其中的一种设备,这些设备大多和光刻机一样,是有精度要求的,分别要求达到7nm
读盘速度:读取速度超级快4K蓝光整盘读取最快5分钟搞定! 读盘声音:静音效果好,不会出现明显共振和跳盘及其他杂声噪音问题出现。 稳定性能:支持UHD 的4K蓝光盘读写!这点非常棒,是我买这款光驱最重要的原因。稳定性非常好,连续读写不降速。 轻薄程度:正常5.25光驱位或者移动光驱盒都能非常完美安装。 外形外观:外观漂亮,新款带类钢琴烤漆面的一体式面板,比老款好看很多。 产品包装:包装精致,不知道是不是因为是国内总代的关系,所有一次性封贴都是索厉的。
拜登政府上台以来,反复提及产业链安全,要求美国及其盟友的龙头企业,将产能转出中国,转移到东南亚以及印度等国,以降低对中国产业链的高度依赖
一旦DUV光刻机也被纳入对华禁售范围,中国半导体企业的中低端芯片制造将面临比较大的困难,市场占有率也必然会下降
不过据美媒消息,目前荷兰政府尚未答应美国政府的要求,原因是此举可能会影响中国和荷兰两国的经贸往来
数据显示,2021年中荷两国的贸易额达到了1164亿美元,中国是荷兰的第三大贸易伙伴,其中以光刻机为代表的半导体生产设备,是荷兰对华出口的重要商品之一
两人就“全球产业链供应稳定”和“强调共同维护”进行了友好对谈,中方还表达了对“美国取消对华加征关税和制裁、公平对待中国企业”的关切,这次的交流被定论为“极富有建设性”
转头美国就对中国芯片制造使了个绊子,可真是坐实了它“种地不出苗——都是坏种”的名
在半导体中,光刻机属于核心设备,它不仅是耗时最多、成本最高的一步,同时还拿捏着芯片制造工艺水平的命脉,目前最先进的 7nm、5nm及接下来的3nm、2nm都需要EUV光刻机,即使一台售价高达10亿人民币,依然是供不应求
物流很快,买完第二天就到了,现在已经刻了快50张光盘,无一失败,就是不知道能用多久,希望能多用几年
未来比 3nm 更先进的工艺,将极度依赖高 NA EUV 光刻机
ASML 首席执行官 Peter Wennink 表示:在高 NA EUV 方面,我们取得了良好的进展,目前已经开始在我们位于维尔德霍芬的新无尘空间中打造第一个高 NA 光刻
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DUV光刻机又有两大路线,其中一种就是ASML为代表的浸润式光刻机,以水为介质,采用193nm波长的光线,在水中折射后,变成132nm,而这种设备一次曝光可以生产45-28nm的芯片,价格比EUV便宜一半
不久后,荷兰就决定ASML的出口许可证不予续期,而之前计划好向中芯国际出口的一台价值1.5亿美元的光刻机,至今也没有发货
今年5月底至6月初,美国商务部副部长唐·格雷夫斯在访问荷兰和比利时期间讨论供应链问题时提出禁止对中国企业销售DUV光刻机的要求
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