滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

而ASML也一反常态，称自己是一家欧洲公司，DUV光刻机采用了少量的美技术，可以正常出货给中企

事实上ASML也是这样做的

据公开数据显示，ASML在中国市场拥有15个办事处、11个仓储物流中心、三个开发中心、一个维修中心，员工人数超过1500个

再加上，中芯国际不断兴建新的晶圆代工厂

也正是因为如此，包括ASML、台积电等在内的芯片供应商都希望与中企合作，从而获得更多的利益

为了遏制华为等中企的发展，老美擅自修改了芯片规则，禁止所有使用了美技术和设备的企业向中国市场出货，ASML生产的EUV光机也被包含在内

由于没有EUV光刻机，中国在先进制程芯片市场的占有率并不高，但是在中低端芯片市场，拥有极高的份额

例如新能源汽车、机器人以及其他不需要先进制程芯片的产品，中国国产芯片完全可以满足自身的需求，甚至还可以向海外国家的企业供货

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外媒分析，经过四年的发展，中国大陆目前的国产光刻机水平极有可能来到了28纳米水平

中国自主研发的紫外超分辨光刻机

“02专项”出窍，看国内现状中国目前技术最为先进的光刻机是上海微电子公司生产的90nm光刻机，其实对于光刻机的发展，中国一直在不断尝试，早在06年就成立了02专项，经过十几年的发展，在光刻机各方面已经有了长足的进步

可能看到了苹果M1 Ultra处理器在芯片堆叠技术的大获成功，以及最近非常火热的小芯片技术，感觉3D技术会很香，让日本厂商看到了在此翻身的希望

写在最后，光刻机市场一时间风起云涌，相信这一定让ASML非常担心，担心自己的垄断地位不保，前几天ASML一哥还放软话，“不是我们不愿意卖，而是受政府限制

EUV有多耗电？由于EUV光源的能源转换效率只有 0.02% 左右，所以输出功率只有250W的EUV光刻机，实际需要0.125万千瓦的电力，耗电量是DUV光刻机的10倍以上

这样下来，一台EUV一年耗电量可达到1000万千瓦时

自主研发的紫外超分辨光刻机

物流很快，东西也不错。。。目前读盘很好，刻录还没有用呢，手头没有空白盘。。还是内置的刻录机稳定速度快。。。非常好用 看了说明书就知道了 操作简便易学 非常好用 看了说明书就知道了 操作简便易学

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国产90nm的光刻机

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尽管后来尼康和佳能碰得头破血流，终于攻破了157纳米干式光刻技术，但是当他们反应过来的时候，干式光刻机已经没有任何市场优势

所以从2005年之后，他们的市场份额不断被ASML吞食，目前尼康和佳能在高端光刻机市场上完全已经不是ASML的对手

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第二个因素就是中国的光刻机业务发展比较缓慢，根据之前梁孟松透露出来的消息来看，中芯国际已经掌握了7nm节点的工艺技术，但是由于没有办法拿到EUV光刻机，所以迟迟无法进行流片测试

我国目前投入使用的最先进光刻机，就是上海微电子生产的产品，只支持90nm工艺的芯片制造

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我们现在的国内半导体行业，急需要一台主流水平的光刻机去助力我们的芯片制造

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美媒认为，施赖纳马赫尔的这番言论标志着荷兰官员首次公开阐述他们在这个问题上的立场

同时，这番言论也突显了美国在说服盟友加入自己行动方面所面临的重大挑战

不可否认的是，在高端芯片制造领域中国还有很多不足，其中主要原因就是缺少制造高端芯片光刻机

先锋的刻录机确实很稳定，效果也很好，已经用了好几个了，又买了一个感觉，确实不错。小巧玲珑，播放翻录效果都好，很安静，刻录还没用暂不需要，是一款超赞的小光驱！拍照为证。

据称，目前国内正在研发28nm精度的光刻机，那么经过2次曝光后，能够达到14nm，然后可以尝试性的进行第三次曝光，然后有可能迈入7nm

当然，以上只是猜测，因为精度越高的光刻机，多次曝光的难度也就越高了，一切还得看真机的实测才行

由此可见，美国的霸权主义是让美国强盛的因素之一

但凡是技术发展起来威胁到美国地位的国家，美方就会动用政治力量去打压它，不管这个国家跟美国是不是有仇

现在日本的半导体发展可以跟三星抗衡，仅次于美国

来自日本的东京电子，在半导体技术领域四面开花，属于六边形选手了

中国自主研发的紫外超分辨光刻机

第二个因素就是中国的光刻机业务发展比较缓慢，根据之前梁孟松透露出来的消息来看，中芯国际已经掌握了7nm节点的工艺技术，但是由于没有办法拿到EUV光刻机，所以迟迟无法进行流片测试