光刻机的工作原理说到这儿,大家可能已经茅塞顿开,合着这玩意儿就起着“转移图形”的作用
这样的话,似乎也没什么了不起
从理论上来说,转移图形并不难,难的是芯片变得越来越小,其中容纳的晶体管数量越来越多
这就意味着,光刻机必须要将复杂的集成电路图形,精确地转移到小N倍的芯片上,一旦出现什么意外,芯片就报废了
中国科学院微电子研究所的陈宝钦在文章《光刻技术六十年》中表示,“从1968年半导体IC 由实验室走向工业大生产算起到现在,集成度提高了约百亿倍,最小特征尺寸图形的加工线条宽度缩小到原来的约 1/10000