滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

大家都知道，我国的半导体产业这些年的发展速度十分之快，无论是从芯片还是从光刻机方面，我们都顺利的制造出了属于我们的“国货”

但是，我们的国货终究技术有限，目前来说我们与顶级的光刻机制造企业之间还是存在很大的差距，而我们想从国外进口，却又面临到了一个重大难题

这两年，基于光刻机的新市场规则，我国很难再从国外进口到先进的EUV光刻机，如今虽然美国对ASML公司松口了，允许ASML公司出口光刻机了，但是只是一些中低端产品，我们并不需要

那么，在缺少高端光刻机的情况下，我们到底该怎么做呢？我们只有两大选择，一是自己研发制造出高端的国产光刻机，二就是在国际上寻求不含美国技术的光刻机

还有一些材料，也需要达到7nm，比如光刻胶，7nm及以下芯片制造需要的是EUV光刻胶，但我们自给率为0

后道工序，这里主要涉及到的是封测，相对要求会低一些，但也是有工艺精度要求的

目前仅是EUV光刻机卡得最为明显，卡得最为关键，最为大家所知而已，并不意味着其它设备或材料不卡了，一旦EUV光刻机我们有了，美国在其它设备或材料上就会卡住我们的

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一直用的这个品牌的，质量非常好，还没上手用新买的，希望能够好用，一次买了两个，办公方便。

所以产业界开始寻找减少对先进工艺依赖的方法，目前已经取得了不错的成绩，即芯粒和先进封装技术

我们现在的芯片，本质上是同质同构，也就是采用同样的材料和同一种芯片架构

而芯粒技术，就是采用不同的芯片架构，在芯片制造的后端环节，利用先进封装，再将不同架构的芯片集成到一起，形成一颗“大芯片”，所以芯粒也被叫做“小芯片”技术

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光刻机风云再起

光刻机是芯片制造环节的一种关键设备，在芯片的工艺制程上，也主要是由光刻机来决定的

根据芯片制造环节的不同，可以分为前道光刻机和后道光刻机，ASML的优势在于前道光刻机，而我国上海微电子的优势，则是后道光刻机

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此外，为了保障晶圆图案的质量，光刻机中每一块透镜的位置误差都必须小于1nm，同时还要能尽量消除光损失而产生的热量

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中国光刻机什么时候能突破

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吸取了前车之鉴后，除了强攻整机制造，还扶持了一批配套产业链企业

　　比如，中科院微电子所与科益虹源合作研究光源系统、清华大学与华卓精科的开发双工作台系统、浙江大学与启尔机电共同研制浸没系统等

国产光刻机突破在即

为了完成光刻机的研发需要多个部门和机构协同合作，国内多个顶级研究院以及大学都参与到了光刻机的研发之中

国产光刻机除了上述已知的企业和研究所之外，还有更多的科研机构在默默地进行着光刻机技术的研发和突破，也正是在齐心协力之下，第一台可用于28nm芯片制造的国产光刻机也有望于近期亮相

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显然，以我们目前的情况来说，还是第二种选择更符合实际

不过今年以来，芯片需求有所下滑，包括智能手机芯片出货量持续降低，导致台积电被客户砍单，不得已关闭数台EUV光刻机

这种情况下ASML的正常举措应该是控制光刻机的产能，但ASML却大量提产光刻机

根据ASML公布的计划显示，会在2026年之前将DUV光刻机年产能提升至600台，EUV光刻机90台

中国5纳米光刻机突破2019年

这么多的光刻机，ASML能获得多少销售机会？恐怕ASML真的能获得不小的销售额回报，实现翻倍的光刻机出货量也许不是问题