可见,光刻机已经成为了当前我们制造芯片的最大短板了,所以国产光刻机真的要努力才行,不说实现5nm,先实现28nm,再搞定14nm,先实现与其它国产半导体设备一个节点才行,你觉得呢?而只要国产半导体设备有了突破,达到先进水平,禁运也就没有了任何意义,也就会全面放开了,刻蚀机就是最好的例子
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也正因为光刻机技术差距大,所以目前光刻机是禁运的,比如EUV光刻机美国就不准ASML卖到中国大陆来,为的就是阻止我们进入到7nm