图为国产光刻机考虑到光刻机技术的发展需要大量时间沉淀,在目前阶段,中国应该大力发展中低端光刻机技术,并实现大规模量产交付,以此来扩大产业规模,培养技术人才,只有这样,中国才能追上与西方在技术上的差距,并早日实现高端光刻机的国产化
由此可见,目前在芯片领域被卡脖子的中国,想要实现光刻机的国产化是相当困难的,但生产国产光刻机并不是不可能,出于技术积累与人才储备不足的问题,中国目前显然无法完成高端光刻机的国产化,但对于中低端光刻机,中国有足够的实力去完成国产化,目前上海微电子公司就已经展开了对28纳米工艺光刻机的研发,该光刻机将于今年交付使用,虽然28纳米制程落后于国际领先水平,但这却让中国的光刻机工艺从90纳米直接步入28纳米,属于重大进步