它的验收成功,也标志着我国研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备,具有重大意义
因为,超分辨率光刻机与ASML光刻机采用了完全不同的技术路线
ASML最出名的当属EUV光刻机和DUV光刻机
EUV指的是极紫外光,它可以制造7nm以下的芯片,使用的是13.5nm波长的光源
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