滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

老美对于EUV光刻机近乎歇斯底里的管控，引起了ASML公司的极度不满，该公司CEO彼得・维尼克曾多次向老美发出警告：如果不卖给中国EUV光刻机，用不了几年，中国人就会找到有效地解决方案，拉下EUV光刻机时代的帷幕

虽然在过去的几年里，ASML公司明确表示不会“脱离”中国市场，将会加强与中企的合作，帮助中企提升芯片制造能力，但由于该公司制造的EUV光刻机使用了大量来自美国的半导体技术和元器件，即便是收了中芯国际等国内芯片制造企业EUV光刻机的全额货款，也不能向这些企业发货

如果DUV对华禁售，导致中国大陆不得不放缓次一级先进工艺产线的建设，受损最大的将是AMAT、LAM、KLA等美国公司

除此之外，王笑龙还提到，半导体供应链的紊乱已经持续三年，至今并未理顺

中国大陆是全球半导体供应链体系中不可割裂的一部分，大量美国芯片巨头也依靠甚至依赖中国的晶圆厂供应

刻录机一直买先锋，刻盘成功率高，废盘很少，买刻录机就买先锋。这款刻录机外观简洁大气，做工很好，使用也非常好，读取刻录都很棒，还没刻过坏盘！

性能非常的稳定，售后值得信赖。收到了，物流速度很快，包装很好，很好用的，用的放心，是很好用的，环保健康，值得买的。

本人电脑配光驱是并口的，现在换了新主板已经没了并口，只得配串口光驱。之前用的是先锋光驱，用了多年性能依旧良好，所以这次还是选先锋。这款光驱质量不错，读盘很快，刻录效果也不错，声音很小，而且价格很实惠。

为了缓解美国的芯片积压，其再度向ASML施压，令其终止对中国大陆的DUV光刻机进口

ASML这次无法忍耐，因为如果终止了与中国大陆的DUV光刻机贸易，则标志着ASML的基本生存都会出现问题

在这种情况下ASML一反常态，对于美国的意志进行了“背叛”，甚至公开表示会加大光刻机生产量，并将在华员工从200名提高到1500名向中国示好

“光刻机”被称之为传统芯片制造的工业母机，因为它必不可少，同时光刻机的好坏，精度，决定了芯片的精度、良率等等

不过大家也清楚，光刻机目前全球只有4家厂商能够生产，分别是ASML、尼康、佳能、上海微电子，ASML是荷兰企业，尼康、佳能是日本企业，而上海微电子是中国企业

因为实践表示，3次曝光会导致良率大幅度下降，4、5次良率可能会低到没法想象，晶圆厂们的成本高到没法承受，不如买一台更高级光刻机，成本还低一些

所以，目前国内在努力的研发28nm的光刻机，这样经过两次曝光后，可以搞定14nm，至于7nm工艺，那最好还是期待EUV光刻机，用28nm的来曝光三次，良率没法看

光刻机聚焦镜片打磨工艺

买回来当CD机用，非常好用，音质很好，先锋光驱不错哦，高颜值，高品质，非常好，一分钱一分货，材质外观和质量一看就很上档次，非常喜欢

很好的刻录机，刻录盘时声音很低，刻盘成功率高。质量不错，安装简单，稳定性也很好，读碟速度快，值得推荐

像intel、台积电、三星等巨头，则是三大光刻技术，都在押注，以免万一某一种技术突然崛起，把自己搞得措手不及

2012年，中国科学院光电技术研究所承担了超分辨光刻装备的研制任务，经过近7年艰苦攻关，在无国外成熟经验可借鉴的情况下，突破了高均匀性照明、超分辨光刻镜头、纳米级分辨力检焦及间隙测量和超精密、多自由度工件台及控制等关键技术，其采用365纳米波长光源，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米

例如，该光刻机已制备出一系列纳米功能器件，包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感芯片、超表面成像器件等，验证了该装备纳米功能器件加工能力，已达到实用化水平

同时，荷兰的半导体生产链中，有90%的关键原材料来自于中国，若是中方采取对等制裁，禁止向荷兰输送半导体原材料，无疑会对荷兰的半导体生产链造成重大打击

所以，荷兰打压中国，对自己造成的弊端远大于所能获得的利益，荷兰政府又不傻，自然会拒绝美国的游说

荷兰光刻机首先，荷兰和中国互为重要的贸易伙伴，为了维护两国良好的经贸关系，荷兰在对华政策上一向小心谨慎

在欧洲响应美国号召，试图对中国进行贸易孤立后，荷兰首相吕特就曾公开表示反对，还呼吁欧盟应该制定独立的对华政策，不要被美国牵着鼻子走

另据韩媒 Business Korea 报道，三星电子正计划通过在未来三年内打造 2 纳米 GAA(Gate-all-around)工艺来追赶台积电

随着 0.55 NA EUV 光刻机量产提上日程，芯片厂商的“2nm 工艺战”也将彻底打响

其中，有 9 台 EUV 光刻机在今年一季度售出，与去年四季度售出 12 台 EUV 光刻机相比，环比减少 25%

数据显示，ASML 去年共售出 42 台 EUV 光刻机

根据 ASML 今年稍早前发布的 2021 年第四季度和全年财报，ASML 去年的 EUV 光刻机销售额为 63 亿欧元（约合 447 亿元人民币）

仅达到90nm

那么问题来了，当前国产半导体设备中，技术最先进的是哪一种，技术相对最落后的又是哪一种呢？上图这张图，其实说得非常明白了

刻蚀机应该是当前国产半导体设备中，唯一达到国际先进水平的，已经达到了5nm

这家公司就是中微公司，其生产的刻蚀机，早就实现了5nm，被台积电、中芯等晶圆厂使用

可见，光刻机已经成为了当前我们制造芯片的最大短板了，所以国产光刻机真的要努力才行，不说实现5nm，先实现28nm，再搞定14nm，先实现与其它国产半导体设备一个节点才行，你觉得呢？而只要国产半导体设备有了突破，达到先进水平，禁运也就没有了任何意义，也就会全面放开了，刻蚀机就是最好的例子

一直用多大先锋的外置刻录机，用于投标刻录光盘的。实事求是！真是皮实耐用！！！第一台用了7年，这才换第二台，绝对的物超所值！良心评价，我个人认可了这个牌子，推荐大家 稳定性能：用了7年才出现一点点问题

光刻机机械制造工艺研究所

而台积电、三星这两大晶圆巨头，则是NIL、EUV、DSA三大光刻技术，都是做了准备，不过EUV光刻的专利相对多一点，再是NIL,最后是DSA

蔡司作为EUV光刻机的重要供应链，主要还是发务EUV，专利上占到了353件，而NIL也有38件，DSA则为0