当然,硅基芯片,也不需要这种电子束光刻机,这么高的精度更多还是用于量子计算芯片,制造出一些高精度的量子器件,纳米器材等
另外就是,EBL电子束光刻机,产能非常低,至少在目前大规模制造芯片也不现实,只能小规模的制造量子计算的芯片,至于未来能不能技术改进,提高产能,进而取代EUV光刻机,还不清楚
至于1.8nm以下,用什么光刻机?反正ASML现在还没规划,因为1.8nm后,技术又会怎么样变化,谁也不清楚
但近日,美国一家公司Zyvex,利用一种完全不同于EUV光刻机的技术,制造出了768皮米,也就是0.7nm的芯片