滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

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科技部多次召开紧急会议讨论：一旦和美国闹掰，国家信息安全将面临怎样的威胁？　　在缺芯少魂的担忧下，中国喊出了“砸锅卖铁也要研制芯片”的口号

在政策的鼓励下，中国半导体产业出现了海归创业和自主发展的热潮，国产光刻机再度觉醒

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掌握光刻机技术的国家

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有关光刻机小说

2012年，中国科学院光电技术研究所承担了超分辨光刻装备的研制任务，经过近7年艰苦攻关，在无国外成熟经验可借鉴的情况下，突破了高均匀性照明、超分辨光刻镜头、纳米级分辨力检焦及间隙测量和超精密、多自由度工件台及控制等关键技术，其采用365纳米波长光源，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米

已经实际应用

总之，这款表面等离子体超分辨光刻装备的成功研发，打破了传统光刻机的路线格局，形成一条全新的纳米光学光刻技术路线，绕开了国外相关领域的技术壁垒，具有完全自主知识产权，其关键技术指标达到超分辨成像光刻领域的国际领先水平

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之所以说ASML公司不会放弃中国市场，明显地，中国市场是DUV光刻机的采购大户

在美对中国市场断供后，成熟工艺芯片市场则成为中国半导体产业的重心，因此DUV光刻机的需求量也暴涨

根据数据来看，2022年Q1季度，ASML公司就已经向中企供应了23台光刻机，足以证明，中国市场对ASML公司很重要

在美国政府看来，尽管中国目前从阿斯麦公司拿到的设备，其所用的技术处在边缘淘汰阶段，但是中国的光刻机企业仍旧可以以此为基础，研发技术更加先进的光刻机

近年来，中国国产光刻机取得了一系列重大突破，2018年上海微电子生产的90nm光刻机通过了验收

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EUV光刻机后DUV光刻机也将无法进口:取代ASML已经成了唯一选项

在历史上我们国家的光刻机也曾经有过一段高速发展的阶段，早在1965年中国科学院就研制出65型接触式光刻机；1977年研制出GK-3型半自动光刻机；1981年研制出JK-1型半自动接近式光刻机；1985年研制出分步投影式光刻机，达到美国4800DSW光刻机的水平，距离世界上最顶级的分步光刻机也仅有7年的差距

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图源：阿斯麦2022年二季度财报 “芯谋研究”总监王笑龙7月13日撰文指出，如果ArFi光刻机无法对华出口，为此搭配的ArF Dry、KrF和I-Line光刻机也会跟着受到影响

阿斯麦在华的损失将不止是ArFi光刻机一类产品的营收，估算下来至少占到阿斯麦每年在华营收的70%以上，超过20亿美元

光刻机巨头ASML:限制对华出口DUV

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近几年来中国极力发展芯片制造产业链，经过近十年来的努力，中国在芯片制造的八大环节都已达到14nm，刻蚀机更已达到5nm，而芯片封测技术已达到3nm，仅有光刻机还停留在28nm以上

光刻机也成为中国芯片制造最后需要打通的环节，而随着更多企业的加入，特别是近期一家重量级企业成功研发了光线折射技术，对于中国的光刻机产业来说无疑是巨大的突破

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正品，发货速度也很快！这款蓝光刻录机支持16倍速，而且非常静音，刻录数十G光盘?最佳选手。省时间啊！美中不足没有附赠刻录软件

再次是财大气粗的台积电也一反常态不在抢购EUV光刻机，台积电当下的先进工艺制程产能过剩，而客户由于全球芯片行业衰退而转向选择成熟工艺，为了增强竞争优势，台积电建立“3D Fabric”联盟，以3D封装技术提高成熟工艺的性能降低成本