滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

挺好用的，多了一根电源线，对功率小的笔记本很有好处，刻录速度不错，不易刻录失败。好用。白色颜值很高

众所周知，目前最顶尖的光刻机是ASML的EUV光刻机，能够制造3nm的芯片

且在ASML的规划中，到2024年或2025年会交付全新一代的High-NA极紫外光刻机

这种EUV光刻机，数值孔径变为0.55NA，也就是解析度（精度）为8nm，可以制造2nm，以及1.8nm的芯片

三台光刻机进入华虹无锡基地

很久没有用过光驱了，现在小孩的学习资料很多是光盘，所以买一个用用，老牌光驱品牌，不错，很好用，如果能配套方便使用的刻录软件就更好了

读盘速度：十分快 读盘声音：小 稳定性能：十分不错 轻薄程度：刚刚好 外形外观：美观 产品包装：很好

光刻机板块策略机会：光刻机板块情绪策略主要条件板块:光刻机;游资控盘度(游资高控盘, 游资关注);预收账款同比变化≥10%;在建工程同比≥10%;筛选条件：选股数量 (3,5);筛选因子:波段操作评分(从大到小);黑名单剔除;ST剔除;涨跌停剔除;光刻机板块情绪策略来源：阿牛智投我们按照上面的选股条件，依托大数据系统构建一个策略模型，策略表现情况如下：在2017年8月2日到2022年8月2日这五年时间里，策略年化收益能够达到24.89%，累计收益高达204.03%，最大回撤可以控制在27.91%，风险回报率达到1.00；而光刻机板块在这段时间里累计上涨了90.56%，上证指数更是累计下跌3.01%；策略表现在跑赢大盘的同时，也远远好于光刻机板块本身的上涨幅度

还有一些材料，也需要达到7nm，比如光刻胶，7nm及以下芯片制造需要的是EUV光刻胶，但我们自给率为0

后道工序，这里主要涉及到的是封测，相对要求会低一些，但也是有工艺精度要求的

目前仅是EUV光刻机卡得最为明显，卡得最为关键，最为大家所知而已，并不意味着其它设备或材料不卡了，一旦EUV光刻机我们有了，美国在其它设备或材料上就会卡住我们的

刻录机包装完好无损，外观设计漂亮，性能稳定。物流超快。感谢商家和快递小哥！包装很完整，做工也不错，入手很轻，读盘顺畅，还没试着刻盘

这家的先锋(Pioneer) 16X内置蓝光刻录机 支持BDXL刻录/ BDR-S12XLB的真是太好用了，用了第一次就还想再用一次。先锋(Pioneer) 16X内置蓝光刻录机 支持BDXL刻录/ BDR-S12XLB包装不错，很严密，产品样数和下单一样，送的东西也很满意。五星好评！非常好，非常好好用，舒服，评个五星，发货快一天就到了。

而面对美拉拢的时候，日半导体可谓是表态很迅速，直言他们已经在参考哪一些可以跟随限制了

显然，那个时候日半导体是给老美释放了一个不错的信号

除ASML之外的光刻机厂商们近况如何?国内光刻机生产龙头公司

尼康尼康的光刻机产品阵容比较全面，包括ArF浸没式扫描光刻机、ArF步进扫描光刻机、KrF扫描光刻机、i线步进式光刻机和FPD面板光刻机，基本涵盖了除EUV以外的主流光刻机

其中最新的NSR-S635E为ArF浸没式扫描光刻机，可以做到小于等于38nm的分辨率，1.35的数值孔径和大于275晶圆/小时的吞吐量

目前最先进的光刻机分为两种:EUV（极紫外光）和DUV光刻机（深紫外光），极紫外光刻机的波长是13.5nm，而合理制程为3-7nm，光刻机最重要的是投影就是通过光将电路图案通过镜片放大投影到硅片上（跟平常上课用的投影仪一样），但是极紫外光很难获取到，要通过特殊的手段，首先是光源，极紫外光在电磁波光谱中属于短波，在光刻机中使用193nm的光源变成13.5nm的光源，一直困扰科学家多年，直到一位科学家提出通过击打锡滴来获取更短的波长，但是由于光刻机的光源通过各种反光镜的传输，实际收到的光源强度只有2％，所以有科学家提出击打两次来提高光强

2012年，中国科学院光电技术研究所承担了超分辨光刻装备的研制任务，经过近7年艰苦攻关，在无国外成熟经验可借鉴的情况下，突破了高均匀性照明、超分辨光刻镜头、纳米级分辨力检焦及间隙测量和超精密、多自由度工件台及控制等关键技术，其采用365纳米波长光源，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米

很好，经过测试质量很好，刻录光盘很快。刻录稳定，一直很多年都在用先锋的，没有问题！非常满意

荷兰光刻机起火华为

读盘速度：速度还是相当快的，大概2秒左右。 读盘声音：声音很小，主要是用来放音乐?的。 稳定性能：性能指标还可以，支持各种格式的光盘?兼容性比较好。 轻薄程度：大小刚刚好，能放在光驱位，要螺丝固定。 外形外观：外观很别致，很简洁。 产品包装：包装盒完好，还送了数据线。

专门买的工作用，日常家用主机很少会选装了。首先国庆假期物流同样很快，然后商品包装完好，货是全新的，这次购物很满意

读盘速度：8倍速，速度一点也不卡顿。先锋在光存储领域有着多年研发经验,是做刻录机的大品牌。 读盘声音：声音不大，外接放置也很稳。 轻薄程度：轻薄，手感很好。 外形外观：黑色磨砂质感，看起来稳重显高级。 产品包装：盒子里有防震保护，盒子外面套塑料袋，干净。 快递速度特别快，从下单到拿到手，只用了不到5个小时。

EBL电子束光刻机，大家可能熟悉了，前段时间美国公司Zyvex，就搞出了一台电子束光刻机(EBL)，并制造了768皮米（0.768nm），不过这种光刻方式速度慢，不可能用于在规模芯片制造

读盘速度：一如既往的快 读盘声音：一如既往的的轻 轻薄程度：比老款略缩短1CM 外形外观：中规中矩的四方 稳定性能：读写很稳定 产品包装：比之老款，包装略简单，且无NERO光盘附赠。

先锋刻录机，15年了 始终在用这个牌子 真心好用。还不错！14年的老电脑！就机箱和光驱没有换过啦！这次还换先锋的光驱！物美价廉

国产90nm的光刻机

据称，目前国内正在研发28nm精度的光刻机，那么经过2次曝光后，能够达到14nm，然后可以尝试性的进行第三次曝光，然后有可能迈入7nm

国产光刻机再进一步

读盘速度：很快很强 读盘声音：比较轻 稳定性能：性能稳定可靠，容错能力强 外形外观：很好看 轻薄程度：适中 产品包装：精致

中国除了继续研发光刻机之外，还在研发无需光刻机的芯片制造工艺，这方面已有日本做出示范，日本企业研发的NIL工艺就无需光刻机并已给日本存储芯片企业铠侠采用，证明了无需光刻机也能生产芯片，而日本预计NIL工艺可用于5nm芯片的生产，如果这一工艺得到推广对ASML更是灭顶之灾

读盘速度：速度快。 读盘声音：声音小。刻录声音也不大。 稳定性能：性能稳定。 产品包装：包装很好。