如上图所示,这是机构统计的2021年前道光刻机出货量情况,大家可以看到高档的EUV光刻机,ASML完全垄断,低档尼康、佳能有一定的份额
而中国大量需要光刻机,特别是EUV光刻机,这就造成了市场与需求的不匹配,但ASML也没办法啊
发力NIL技术
所谓NIL技术,是将三维结构的掩膜压在晶圆的感光材料上,同时照射光线完成一次性转印,被称为是最有前景的光刻技术之一
目前在NIL的专利上,佳能一支独秀,远超其它任何厂商,并且佳能的NIL光刻机不仅仅是停留在纸面上,而是已经有有生产出来了,在2021年就有了成品,并且被铠侠应用于NAND闪存的生产