编者按:公众比较熟悉的光刻机代差是基于193纳米光刻光源的干式DUV和浸液式DUV
而浸液式DUV光刻,可以通过多次曝光获得7纳米节点的能力
明确这些技术代差,有助于讨论和思考我国的光刻机发展方式和组织模式
这款光源对应上图的位置是1994年
当然,我们不能把1994年当作技术差距的时间点
例如不排除同步开发的193nm的ArFDUV光源也已经进入光刻机厂商的测试环节;亦即达到193nm浸没式光刻水平,那么对应上图的位置是2005年左右
编者按:公众比较熟悉的光刻机代差是基于193纳米光刻光源的干式DUV和浸液式DUV
而浸液式DUV光刻,可以通过多次曝光获得7纳米节点的能力
明确这些技术代差,有助于讨论和思考我国的光刻机发展方式和组织模式
这款光源对应上图的位置是1994年
当然,我们不能把1994年当作技术差距的时间点
例如不排除同步开发的193nm的ArFDUV光源也已经进入光刻机厂商的测试环节;亦即达到193nm浸没式光刻水平,那么对应上图的位置是2005年左右
这种改变,让芯片产业对EUV光刻机的需求下降,而ASML要保证自己的市场地位和盈利水平,就必须要保证DUV光刻机的出货量,所以我们就看到,就在前段时间,ASML方面不顾老美的要求,坚持向中企供货,并直言即便DUV光刻机使用了少量的老美技术,但是ASML依然可以继续向中企供货,言外之意,必要时,ASML可以选择用其他技术替代老美的技术
所以面对这样的情况,老美恐怕始料未及,但可能情况更加严重,因为不仅是格芯,老美的芯片超级巨头英特尔已经进行裁员了,动辄都是上千人的规模,与之正好相反的,是ASML大举在我们国内招聘,计划招聘的规模已经达到1500人,目的就是服务好中企客户,因为光刻机不是出售了没事了,还需要有驻场人员进行售后服务
稳定性能:非常稳定 读盘速度:速度快 读盘声音:无噪音 外形外观:精致美观 轻薄程度:轻薄
美国也正是看到了这一点,在打压中国芯片行业发展方面,美国便将目光锁定在了光刻机上
早前,美国施压荷兰阿斯麦公司(ASML)禁止向中国出口用于14纳米工艺芯片制造的最先进的极紫外(EUV)光刻机,但相对比较落后的深紫外(DUV)光刻机,并不在禁售范围内
对此,中国外交部发言人赵立坚曾在例行记者会上明确强调,在当前全球化背景下,美方一再将科技和经贸问题政治化、工具化、意识形态化,对别国搞“技术封锁”“技术脱钩”,这只会让其他国家更加警醒,在技术上一味依靠美国行不通,也会促使各国加快实现科技自主自立自强
荷兰此番表态就意味着,荷兰将继续向中国出口光刻机
阿斯麦也是拧得清孰轻孰重,根据相关数据显示,受到美国禁令影响,其三季度的订单下跌趋势明显
另外值得一提的是,半导体领域90%的关键原材料均源自中国,所以荷兰就更加不想与中国作对了
吕特还强调,欧盟在与美国联系的同时,也需要顾及到自身的利益
在G20峰会期间,吕特也是表达出了类似的意愿
中国方面早就指出过,美国滥用国家力量,对盟友进行胁迫,不是正确的道路,最后只会将自己的路给堵住
如今佳能也开工建设新的光刻机工厂,无疑显示出日本的光刻机企业认识到了中国这个庞大的市场带来的巨大机会,事实上这两年中国就大举从日本采购二手光刻机,推动日本的二手光刻机价格暴涨两倍多,让日本企业赚取了丰厚的利润
自打U盘流行,硬盘容量大了之后,光驱就离我们越来越远了,刻录机也不例外,现在基本很少用到。因为喜爱无损音乐,而CD正是最好的载体,所以空着多年的光驱位又要启用了,当日下单次日即收到,趁孩子睡午觉立即刻了两张盘,刻录能支持最大速度,但我用的是最低速度来,一张CD刻好也只需十来分钟,刻好立即回放读碟,效果棒棒的,这光驱不管读还是读都叫我满意!
那么问题就来了, 国产90nm的前道光刻机,究竟能够生产几纳米的芯片,是不是就只能是90nm了?事实上并不是的,在一些晶圆厂的实际测试中,在精度方面,90nm肯定没问题的,同时经过两次曝光,可以得到45nm的芯片,三次曝光最高可以达到22nm左右的水平
上次买的华硕,这次买先锋的,同样品质和价格喜人,读盘能力强,声音小,读取快速,刻录时间和刻盘质量稳定,一次买了2个,单位上用的,同事用了都说可以,六一八期间促销还有卷送,总共买东西便宜了一二百,非常满意的购物体验。
由此我们也可以看到ASML的“幺蛾子”——那就是你能造的光刻机我们就卖给你,但是你造不出来的光刻机那就继续卡着你
高端EUV光刻机也必须从低端开始积累技术,目前国产光刻机厂商好不容易才突破了28nm,而ASML降价销售的策略无疑会对国产光刻机的销售造成极大的影响
先锋刻录机的质量非常好,2004年我家组装的台式机选择的就是先锋台式机刻录光驱,现在还可以正常使用呢。这次主要是给笔记本配置的外置DVD刻录光驱,我再次选择了先锋。这款光驱性能很好,刻录时噪音很小,运行平稳,我非常满意!
逻辑芯片晶圆厂不同芯片节点的光刻机需要投资比例到了7纳米以下,先进逻辑芯片所需要的EUV光刻机的投资比例不断增加:1,5纳米节点的EUV光刻机比例达到60%;2,3纳米节点的EUV光刻机比例达到70%;3,2纳米节点以下的EUV光刻机比例达到80%
中国古语有云~~~杀鸡取卵,饮鸩止渴,就是指得这个“弯道超车”呀
在光存储这个领域中,日本的先锋品牌的确独树一帜,稳定高效,特别是在刻录行业中质量真的是杠杠的,前置面板大黑,尽显优雅高贵,LOGO是白色的,装在机箱中大气豪华,这个品牌的刻录光驱可以放心的使用好多年,值得信赖。读盘速度:速度很快,质量挺好。读盘声音:声音小没噪音稳定性能:很稳定。轻薄程度:适中吧外形外观:外观都一样产品包装:包装结实!
读盘速度:非常快也非常的有效率 读盘声音:基本听不到什么声音,非常安静,掉根针都能听到针的声音 稳定性能:即插即用,放进光碟就能读到想要的内容,非常的值得拥有 轻薄程度:材料用的非常好,又薄又轻方便携带使用 外形外观:黑金刚好看最主要大家都知道,耐脏,本人比较懒。
但ASML也不是拿过来就能干,从技术上可行到实现产品化,还有十万八千里
那简直是一个不可思议的技术方案
首先你需要得到极紫外光
世界上并不存在什么灯泡能直接给你极紫外光
你必须先制造一种直径是三千万分之一米的小锡球,让小锡球以每小时200英里的速度在真空中移动,然后用激光对小锡球进行两次打击
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