在先进晶圆厂,28纳米以下的逻辑芯片制程,其所需要的EUV曝光数量随节点的迭代而逐渐增加,所以节点越先进,EUV光刻机所需数量越多
所以,28纳米以下的高级逻辑芯片,其光刻设备的投资额度,将随着逻辑节点的代差,指数级增加
因为发现别的品牌读盘能力都有不足,选了很多款,最终发现还是先锋的适应性更好!买了,确实不错!之后再买,就这个牌子了,店家发货很快,收藏店家,以后常来!
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