在2005年之前,ASML在光刻机市场只不过是一个小弟而已,当时真正的光刻机大佬是日本的佳能以及尼康,但是这两个企业卡在了157纳米技术路线上,然后他们一直在想方设法突破干式光刻机这个技术难题不过面对光刻机技术瓶颈,当时ASML另辟蹊径,采用了浸润式光刻技术,他们不再片面的追求突破157纳米路线,而是退回193纳米,结果通过采用浸润式光刻技术,他们一路开挂,远远把尼康和佳能甩在后面
asml延迟交付7nm光刻机
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