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但是应付车规级功率芯片，足够了

很多人看到这个信息的第一眼，基本都是比较高兴的心情

之前美国持续给荷兰政府施压，限制asml公司出口给我们光刻机，但是asml公司一直没有妥协

这次asml供应给了我们一台光刻机，从表面上看，是asml顶住了美国政府的施压，完成了一台设备的交付任务，虽然不是EUV光刻机，但是也可以帮助我们发展了

可以的，声音小振动也小，支持的格式全面，试刻了一张CD很满意；还专门试了下DVD -RAM格式，也是支持读写的；颜值手感都很在线！就看寿命了，暂时是推荐购买的?

在早些年的时候，人们就已经意识到了光刻机作为未来科技领域发展的重头戏，很多资本家已经把视线放在光刻机上了，他们不惜耗费大量的资金，主要目的也是为了在光刻机领域里面能够分一杯羹

所以在那个时候很多的老牌资本主义国家，像美国，英国，德国，法国等一系列的国家，在光刻机领域里面都下了大资本研究，并有所成就

做工精致，读片性能很好，轻薄小巧携带方便，五星！还可以，价格很便宜了，电脑还是要装一个刻录机的，万一用了还是很方便的

不过奇怪的是，一向自诩尖端科技老大的美国，怎么这次在光刻机领域，不仅没能独占鳌头，甚至没赶上这两个小国家？这光刻机的技术，当真就比原子弹还要难吗？世界尖端光刻机在荷兰，为什么偏偏是它？日本作为原世界第二，工业发达，能造也不奇怪，今天我们来重点说说荷兰

而0.7nm，差不多相当于2个硅原子的宽度，也是理论上硅基芯片的最高精度，所以很多人认为，当芯片精度达到了1.8nm以后，可能EUV光刻机也不行了，要使用Zyvex公司研发出的这种光刻技术了

Zyvex公司的光刻技术，是啥技术？其光刻系统命名为为ZyvexLitho1，是基于STM扫描隧道显微镜，使用的是EBL电子束光刻方式，与极紫外线没有任何关系，称之为电子束光刻机，可能更合适一点

至于1.8nm以下，用什么光刻机？反正ASML现在还没规划，因为1.8nm后，技术又会怎么样变化，谁也不清楚

对于正处爬坡破冰阶段的国产芯片而言，这无疑是个好消息

从短期看来，有了ASML的光刻机设备的支持，国产芯片在28nm节点左右的成熟工艺领域，产能和良率都能够得到有效的保障，有助于我们进一步降低对美芯的依赖

那么问题来了，ASML为何冒着与老美“撕破脸”的风险，也要对大陆市场供应DUV等光刻机呢？原因有两方面

上海官方前不久已正式确认，90nm国产光刻机已经取得突破，而上海微电子自研的28nm浸润式光刻机也即将完成技术认证

这意味着，在中低端光刻机市场，ASML将不再是唯一的选择

以前买过一个先锋上翻盖的移动外置光驱，用着非常好，读盘快，刻录快，而且上翻盖很方便，拓展上方空间，不占平面位置，打开后安放和取出光盘也都很方便，不知道现在为什么不再出这种上翻盖的外置光驱了。相信先锋的品质所以这次又买了两个，希望质量一如既往。

　　人的潜力，在中国第一代光刻机从业者身上发挥到极致

　　没有资料，只能靠自己摸索，徐端颐和团队成员边干边学，没日没夜地加班攻关，终于在1980年造出了国内第一台投影光刻机

　　1985年，中科院45所在光刻机领域取得了重大进展，研制出分步投影式光刻机，被认定达到了1978年美国GCA公司推出的光刻机水准

正品，发货速度也很快！这款蓝光刻录机支持16倍速，而且非常静音，刻录数十G光盘?最佳选手。省时间啊！美中不足没有附赠刻录软件

ASML的高管近日表示2025年推出的High-NA EUV光刻机可能将是光刻机的最后一代产品了，这已经达到了当前光刻机技术所能达到的最高水平，以这种光刻机技术或许能推进至1.8纳米，再先进的工艺就得另寻它法

读盘速度：快 读盘声音：不大 稳定性能：稳定 轻薄程度：标准 外形外观：好 产品包装：很好

东西已经收到！手感不错！用料扎实！质量很好！平常用基本没有问题！先锋刻录机质量一直很稳定，买来试用刻录了几张光盘，没什么问题。

??先锋8倍速 USB2.0外置光驱DVD刻录机，连接笔记本电脑，质量可靠非常满意，刻录机很好，收到后就安装上，就刻了一张cD盘和一张D9盘，非常不错。

读盘速度：非常好 产品包装：简单便捷 外形外观：大气耐看 读盘声音：还可以 稳定性能：新的

当然，目前全球也在研发其它技术的光刻机，比如多电子束直写光刻机（MEB）、定向自组装技术（DSA）、nm压印技术（NIL）等不同新技术也，希望这些技术有所突破，那么我们就不必依赖ASML了，否则真的太难超越它了

数据显示，全球一共售出478台前道光刻机，被ASML、尼康、佳能瓜分了

给别人组装新机安装的刻录机，这次买配件全是在京东六一八做活动时买的价格很实惠。当然先锋刻录机的质量也是杠杠的，使用效果让人很满意，它是我给别人组装新机的不二之选。

外包装很精美，比联想db75好多了。先前用db75太久了，光头有点灰尘，抓出来的音频有问题，换了之后就好多了。目前没问题，各方面都很好。eac上可以直接查到偏移值，好用！

EUV有多耗电？由于EUV光源的能源转换效率只有 0.02% 左右，所以输出功率只有250W的EUV光刻机，实际需要0.125万千瓦的电力，耗电量是DUV光刻机的10倍以上

这样下来，一台EUV一年耗电量可达到1000万千瓦时

更重要的是，EUV光源能量转换率为0.02%，另外的99.98%电能会变成热量散发出去，又需要大量的设备来降温散热，这又要耗电

台积电的数据显示，2021年能源消耗量为191.9亿度，约占台湾的7.2%

而深圳有1800万深住人口，2021年居民用电量也仅为165.5亿度左右，这就是说台积电的耗电量，可以让深圳的居民用一年

如上图所示，这是4大厂商的光刻机精度

其中用于7nm及以下芯片制造的EUV光刻机，只有ASML能够生产

而尼康能搞定高端的7-28nm的AiF+浸润式光刻机，但佳能、上海微电子却还停留在90nm，只能生产低端的光刻机

不过也有人称，光刻机所指的精度，并不是指能制造芯片的精度，光刻机可以通过多次曝光，提升分辨率的，那么问题就来了，上海微电子的90nm光刻机，最多能生产多少纳米的芯片？据资料显示，目前上海微电子的90nm的光刻机，主要用于电源管理芯片、LCD驱动芯片、WiFI芯片、射频芯片、各类数模混合电路等