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那么荷兰是如何做到的?

那么，面积仅有4万多平方公里的荷兰，是如何培养出ASML这样的光刻机巨头企业的呢，为何ASML公司的光刻机就能傲然全球

ASML公司能造出顶尖光刻机的重要原因荷兰虽然在欧洲的面积不大，但是是一个高度发达的国家，重视电子科学和工业基础，荷兰的企业也在这方面发展顺利

而ASML经过三年的艰苦研发后，终于研发出了光刻机光刻方式的天花板—浸润式光刻，正是凭借这种先进的方式，ASML才生产出了世界顶尖的光刻机

ASML公司拒绝出口最先进的光刻机给中国一直以来，西方国家都畏惧中国强大的创新能力和制造实力，一直在一些尖端科技上给中国添堵

这意味着，首台ASML光刻机搬入，中国首座12英寸车规级功率半导体自动化晶圆制造中心即将投入生产；与此同时，ASML也通过实际行动表明了自己不放弃中国市场的态度！▲ 首台设备搬入造芯：预计年产36万片！根据鼎泰匠芯官方消息显示，临港重装备产业区F16-01地块项目，位于上海市浦东新区南汇新城镇，东至新元南路，西至鸿音路，北至万水路，占地约198亩，总建筑面积达204059.7平方米，总投资超120亿元

挺不错的，物美价廉到货快，之前在京东买过两台同款的，确实很不错，这次趁活动再买三台囤着备用，还未启用。虽然说CD DVD刻录技术早已成熟，然而自从以前的先锋115CH刻录速度变慢以后（没飞过盘，只是刻录速度变慢），实体店买过两台某星的，那真是一塌糊涂，各种飞盘，刻录出来的数据面颜色都不均匀，也很难读取，没用几次就弃用了。之后看到京东自营有先锋的了，就买回先锋的，就这款，刻录声音很小，出盘的质量很高。虽然价格比以前便宜了，但质量确实没有缩水，这里面可能也是存在一点黑科技的。挺好的，应该还会再买。

稳定性能：不错 读盘速度：很快 外形外观：还好 轻薄程度：适中 产品包装：精美 读盘声音：很轻

中芯国际光刻机国产

物有所值，买回来看包装就很喜欢，推荐此产品，欢迎大家来买他家的产品。 读盘速度：很快， 读盘声音：声音不是很大 稳定性能：刻录光盘很舒适 外形外观：很漂亮，用着合适。 轻薄程度：很薄

在芯片设计上，28纳米工艺只需要4280万美元，7纳米则需要2.486亿美元，3纳米已经需要5.811亿美元，2纳米预计需要7.248亿美元，所以一颗3纳米芯片的设计成本，就是28纳米工艺的近14倍，超40亿人民币

由此可见，目前在芯片领域被卡脖子的中国，想要实现光刻机的国产化是相当困难的，但生产国产光刻机并不是不可能，出于技术积累与人才储备不足的问题，中国目前显然无法完成高端光刻机的国产化，但对于中低端光刻机，中国有足够的实力去完成国产化，目前上海微电子公司就已经展开了对28纳米工艺光刻机的研发，该光刻机将于今年交付使用，虽然28纳米制程落后于国际领先水平，但这却让中国的光刻机工艺从90纳米直接步入28纳米，属于重大进步

荷兰最新光刻机多少纳米

中国院士:放弃幻想

商品经济实惠，质量很好?，什么光盘都能读写，物流速度快，太给力了。收到了，开了用过了，很棒速度很快

对于正处爬坡破冰阶段的国产芯片而言，这无疑是个好消息

从短期看来，有了ASML的光刻机设备的支持，国产芯片在28nm节点左右的成熟工艺领域，产能和良率都能够得到有效的保障，有助于我们进一步降低对美芯的依赖

那么问题来了，ASML为何冒着与老美“撕破脸”的风险，也要对大陆市场供应DUV等光刻机呢？原因有两方面

你可以说推动工艺发展最大的功臣是智能手机芯片，但其他应用对高密度的需求同样不可小觑，因为这对它们来说也就意味着更高的存储容量和带宽、更高的算力

Intel、台积电已下单荷兰半导体设备厂商ASML（阿斯麦）正在全力研制划时代的新光刻机high-NA EUV设备

对于High-NA EUV技术之后的技术方案，ASML正在研究降低波长，但其怀疑Hyper-NA将是最后一个NA，可能是接下来半导体光刻技术发展出现问题的地方，其制造和使用成本都高得惊人，且不一定能真正投入生产，当前半导体光刻技术之路或已走到尽头

先锋的东西非常好，已经用上了。以前刻录的资料都能读，非常满意。先锋24速DvD刻录机，工作稳定，噪音小，兼容性高，读盘速度快，刻录效果好，非常满意！

不再向美限令妥协!首台ASML光刻机已搬入中企光刻机商业计划书

其次，ASML能够更多的出货，也是因为ASML的光刻机制造技术最为先进，其它厂商根本替代不了

据了解，ASML的光刻机技术来自全球40多个国家、数百家供应商，就连美国也没有独立生产制造光刻机的能力

另外，在ASML生产制造的光刻机中，美国技术占比是有限的

还没安装，连电测试了一下没问题。这两天装起来试试。工作需要刻盘，先锋算是光驱里边老牌子了，希望可以好用一点，用久一点。总之不错，很满意。

读盘速度：读盘速度非常快，即插即用读盘声音：声音小。临时要用，上午下单京东下午就送到了，非常方便。但凡装机几乎必选先锋光驱，用了很多年了，质量一直都很稳定。话说包装设计得蛮漂亮的

为什么要冲刺高 NA EUV 光刻机？光刻系统所能达到的分辨率是光刻收缩的主要驱动因素之一，它主要由所用光的波长和光学系统的数值孔径决定

更短的波长可以打印出更小的特征；更大的数值孔径可以更紧密地聚焦光线，也能够带来更好的分辨率

众所周知，在当前的芯片制造环节中，光刻是其中一个必不可少的重要环节

而光刻就需要用到光刻机，而7nm及以下芯片的光刻时，就需要用到EUV光刻机

EUV光刻机非常复杂，全球只有ASML一家企业能够生产

同时EUV光刻机成本非常高，一台EUV光刻机售价超过10亿元，最新的0.55数值孔径的EUV光刻机，价格更是超过3亿美元（20亿元）

EBL电子束光刻机，大家可能熟悉了，前段时间美国公司Zyvex，就搞出了一台电子束光刻机(EBL)，并制造了768皮米（0.768nm），不过这种光刻方式速度慢，不可能用于在规模芯片制造

尼康尼康的光刻机产品阵容比较全面，包括ArF浸没式扫描光刻机、ArF步进扫描光刻机、KrF扫描光刻机、i线步进式光刻机和FPD面板光刻机，基本涵盖了除EUV以外的主流光刻机

其中最新的NSR-S635E为ArF浸没式扫描光刻机，可以做到小于等于38nm的分辨率，1.35的数值孔径和大于275晶圆/小时的吞吐量

除EUV系统以外，一些先进测量设备、先进封装设备用到的光学组件同样是高附加值、长交货周期的产品，即便半导体市场增速减缓，也不太会受到设备厂商资本支出变化的影响