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第二大方案是电子束光刻机(EBL)，用高能电子束来替代极紫外线，电子对应的波长只有0.04纳米，加工精度就比EUV又高了不少

目前在这一块比较突出的是美国，前不久前段时间美国公司Zyvex，就搞出了一台电子束光刻机(EBL)，并制造了768皮米（0.768nm）

光刻机行业标准

众所周知，光刻机是芯片制造的母机，是最核心的设备之一

而EUV光刻机，则用于7nm及以下的芯片制造，且只有ASML一家企业能够生产

考虑到ASML是集全球之力造EUV光刻机，且与上下游形成了利益同盟，所以其它厂商想在EUV光刻机上超过ASML，基本上不可能的

众所周知，制造7nm及以下工艺的芯片，需要用到EUV光刻机，而全球仅有ASML能够生产

ASML在2015年，就推出了第一代EUV光刻机WINSCAN NXE:3400B，之后在2019年推出了NXE:3400C，2021年推出了NXE:3600D

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ASML最新光刻机曝光:20亿一台

而基于0.55NA数值孔径的光刻机，光刻分辨率将允许芯片缩小1.7倍、同时密度增加2.9倍，其处理晶圆的能力是每小时处理220片12寸晶圆左右，真正用于制造3nm以下的芯片

出于这三个原因，ASML一直以来都禁止向中国提供真正的支持

所以说，从目前的这个情况来看，国产光刻机技术落后ASML至少是10年以上，对中国来说，想要独立制造光刻机，可以说是万里长征才开始第一步

中国造得出原子弹，难道会造不出光刻机吗？不过，咱们也不是那么多年都任由别人“卡脖子”，而自己没有动作的，我们在“光刻机”上也有自己的一部分研究成果

二是找到能够一批上、下游都能够替代的厂商，这就更加困难了，所以其它的光刻机企业，在EUV这个赛道上，是不太可能与ASML竞争的，除非换赛道，以另外一种技术试

目前佳能是押宝纳米压印光刻（NIL）技术，而美国有企业在在搞电子束光刻机(EBL)，还有企业在研究直接自组装（DSA）光刻，X-射线光刻等，都是绕开EUV技术

过去的这许多年，有众多的企业都想替代ASML，比如尼康、佳能，甚至还有上海微电子，大家都在光刻机上发力，想推出EUV光刻机，甚至换一个方向，用另外的技术来实现EUV光刻机的功能，但暂时都没有成功

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所以面对这样的情况，老美恐怕始料未及，但可能情况更加严重，因为不仅是格芯，老美的芯片超级巨头英特尔已经进行裁员了，动辄都是上千人的规模，与之正好相反的，是ASML大举在我们国内招聘，计划招聘的规模已经达到1500人，目的就是服务好中企客户，因为光刻机不是出售了没事了，还需要有驻场人员进行售后服务

这是EUV光刻机，那么DUV光刻机呢？老美的芯片代工大厂格芯，主要是做成熟工艺，现在也已经宣布，冻结招聘并开始有计划的进行裁员，试问还可能去购买DUV光刻机扩产吗？因此已经可以预见，ASML这个时候选择成倍的提升DUV光刻机的产能，答案也就只有一个，大量的向中企供货，因为只有中企具备购买的能力

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在需要多重高科技技术支撑的情况下，光刻机本身的造价也十分高昂，比如ASML公司的极紫外光光刻机，单价就将近2亿欧元，若是以此前欧元和人民币的汇率来算，就相当于价值14.9亿人民币，一台机器卖出这种高价无疑是相当惊人的

那么，到底什么是光刻机呢？为什么有人说中国想自己造高端光刻机不现实呢？光刻机到底是什么？在“江湖”上，总有光刻机的传说，比如说假如你发明出了光刻机，将会受到怎样优待的“臆想”

光刻机技术哪国最好

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总结ASML有庞大的光刻机产能，但也得有相应的客户支持才行

原本ASML可以在广阔的市场上获得大量的订单涌入，尤其是EUV光刻机可以持续贡献巨额的销售利润

只不过ASML使用了美系技术，面对规则只能顺其自然

一场大火烧没了国内订购的光刻机

分别来看，美国、日本、韩国、中国、欧盟等国家地区都制定了各自的芯片制造计划，大幅度提升芯片产能

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