滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

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还没安装，连电测试了一下没问题。这两天装起来试试。工作需要刻盘，先锋算是光驱里边老牌子了，希望可以好用一点，用久一点。总之不错，很满意。

一小时处理220片12寸的晶圆，其产能有多大？如果是苹果A16这样的芯片，一块晶圆可以切割600块左右，理论上一台这样的光刻机，一年可以就光刻10亿颗以上……至于价格方面，ASML表示，其0.55NA的下一代EUV光刻机单价将达到3亿多美元（约合20亿元人民币）

不过据称，NXE:3600D型号的EUV光刻机，支持的工艺可能仅到3nm，如果要制造2nm的芯片，光刻精度还要提升，需要新一代的High-NA极紫外光刻机才行

先锋品牌值得信赖，一直都是在京东购物，速度快质量好。光驱也是体验很好。读盘速度：很快读盘声音：很静音稳定性能：不挑碟，稳定外形外观：黑色沉稳高大上

光刻机是芯片生产中最昂贵也是技术难度最大的设备，因为其决定了一块芯片的整体框架与功能

其实生产高精度芯片并不难，只是生产速度太慢，而光刻机能快速生产高精度的芯片，所以很重要

光刻机工作原理利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光之后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用

ASML首席执行官温彼得今年早些时候表示，“我认为需要意识到中国大陆是半导体产业重要参与者，不论成熟制程，还是主流半导体制程，中国大陆都是全球市场非常重要的供应商，所以必须小心正在做的事”

因疫情一度出现“芯片荒”之后，全球半导体正面临着新变化——需求走弱、产能过剩

重生之光刻机

顾文军对《环球时报》记者表示，美国对中国半导体产业的限制，已经从制裁中国半导体企业，到限制国外半导体企业在华发展

如今，国际企业内部也有不同的声音

一方是看中国政策应对，并希望推动与华合作，甚至加大在中国的投资，也有人在考虑削减对华投资，奔赴美国

其实日本的光刻机企业也有深厚的技术积累，在2005年之前，日本的佳能、尼康占有光刻机市场八成的市场份额，不过当时它们力推的是干式光刻机技术，干式光刻机技术逐渐达到瓶颈，台积电恰在那时候研发出了浸润式光刻机技术，而日本企业不愿失去已有的利益，将机会让给了ASML

日本光刻机产能加倍计划抢夺中国更多市场份额

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ASML公司的极紫外光光刻机价值2亿欧元光刻技术起源于印刷技术中的照相制版术，所以光刻机就像是一个性能夸张的单反相机，将层次光掩膜版上的图形进行缩小，缩小的比例高达百万倍，然后再将其进行制造

它能够将光掩版上设计好的集成电路图形，通过光线的曝光印到光感材料上

光刻机为什么精准

根据此前美国彭博社的专题报道来看，美国呼吁荷兰的光刻机生产公司阿斯麦，限制对中国出口光刻机这类芯片设备，而荷兰外贸和发展合作大臣却给出了反对的法案，表示他们将会以“捍卫本国经济利益”为主

在我国大力推进芯片国产化的背景下，中企能如愿收到ASML的DUV光刻机，无疑来得很及时！ASML硬刚老美有什么目的？小编认为，ASML之所以义无反顾的对中企供货，其实ASML的日子并不好过，简直是腹背受敌！首先，全球半导体下行，不少晶圆厂因订单不足开始削减成本，对光刻机的需求也逐步放缓，而我国芯片自给率又要在2025年提升到70%，根据ASML公布的财报显示，大陆市场已经成为ASML的第三大重要市场，试问又有谁愿意放弃自己的“金主”呢

ASML硬刚老美有什么目的?

光刻机是干什么用的?为什么很难制造?世界上几个国家能造出来?光刻机数字处理芯片

大家都能看出来，这两家是以前制造照相机、录像机的世界知名企业

但技术落后于荷兰公司

光刻机无论哪国生产，主要技术都是美国掌握；他们根本不向中国出口先进的光刻机，这么多年我们使用芯片都是进口，前段时间芯片断供，我们还紧张了一阵子

一直用先锋刻录机，09年卖的刻录机现在读片困难了，只能换新了。新机很好，价格便宜，满意，性能很好，不但能够读光盘还能刻录光盘，非常的实用，孩子学校发的光盘可以使用了

随着整个市场的不断变化，而ASML也被狠狠的上了一课！在国内市场上，华为已经发布了芯片堆叠技术解决方案，可以利用空间换性能，并造出拥有一定市场竞争力的产品来；而苹果也已经发布了堆叠技术的芯片，而且还获得了市场的一致认可，这也说明这一技术方案是可行的；另外华为还公布了超导量子芯片的专利，这是下一代的芯片核心技术，只要我们取得了突破，那么也就不用被EUV光刻机给卡脖子了！除了国内以外，老美也一直在加快去EUV化，除了限制ASML公司先进的EUV和DUV光刻机的出货以外；包括高通、英特尔、美光等众多的美企巨头企业都在想办法绕开EUV光刻机的限制；就连ASML的第一大客户台积电也联合组建了“3D Fabric”联盟，其目的也是想要通过多重曝光等技术层面的优势来绕开EUV光刻机的限制，从而生产出先进的芯片来；对此美媒也纷纷表示：ASML公司的EUV光刻机的高光时刻已经过去了！综合来看，现在整个半导体市场都在想方设法的想要绕开EUV光刻机的限制，因为大家谁也不想被ASML公司的EUV光刻机给卡脖子发展，就连老美也一样；而ASML面对市场的不断变化，也直接不装了，并表示要加大产能，预计在2025年以前，将EUV光刻机的产能提升到90台，而DUV光刻机的产能提升至600台，很显然ASML这也是想要抓紧时间抢夺更多的市场份额！不过话又说回来，在意识到了EUV光刻机的重要性以后，大家都并不会在一味的依赖ASML的EUV光刻机，加大自主研发的力度，并绕开EUV光刻机的限制也成为了大家的一致认知，而ASML依靠EUV光刻机躺赚的日子也将一去不复返了，不知道对此你是怎么看的呢？

据称，目前国内正在研发28nm精度的光刻机，那么经过2次曝光后，能够达到14nm，然后可以尝试性的进行第三次曝光，然后有可能迈入7nm

当然，以上只是猜测，因为精度越高的光刻机，多次曝光的难度也就越高了，一切还得看真机的实测才行

国产90nm的光刻机

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