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   EUV光刻机会使用二氧化碳激光不断轰击DUV上应用的金属锡原液，使其在激光下变为等离子状态，波长相比之前更短

这一技术不但考验机器的精加工能力，对于操控激光发射的软件也提出了艰巨的要求，别说我国，目前也只有荷兰掌握着成熟制造技术，其他发达国家都会向其采购预定，以提高本国技术水平

制造光刻机太难了

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那么，除了ASML这个大公司，我们还有其他的选择吗？其实，最近我们就有了新的选择

据悉，最近日本企业“佳能公司”正在筹备建设新工厂，并且根据放出的消息称：佳能公司旨在以更低的成本制造出更先进的下一代光刻机

很多专家预测，佳能公司的新光刻机可能是2021纳米压印光科技的升级版，能够实现14nm芯片的量产

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综合起来看，要想芯片制造水平达到7nm，需要EDA支持7nm，半导体材料也是支持7nm，半导体设备也支持7nm……而EUV光刻机只是其中的一种设备，就算我们突破了，美国或其它国家一样能够在其它设备、材料上卡住我们，因为目前国产的半导体材料、半导体设备，很多在28nm甚至更成熟的工艺，达到7nm的少之又少

物流很快，买完第二天就到了，现在已经刻了快50张光盘，无一失败，就是不知道能用多久，希望能多用几年

因此我国的光刻机技术水平仍然需要不断努力突破，才能弥补这个差距

　　【中国光刻机的三次“突破”】　　在1952年，我国步入计算机科研，国家也正是成立了计算机科研小组，而此时的中国相对于外国来讲，GDP仍然差距较大

　　直到1956年，我国正式开始重视半导体产业，并且成功研制出第一只晶体三极管，从此中国进入半导体的新纪元，然而此时相对世界上第一只三极管的诞生已经过去了长达9年的时间

后来国家为了解决这一难题，除了抓紧整机制造，还开始扶持一系列配套产业链的发展，在不懈努力下，光刻机产业也成功在2016年实现90nm的光刻机量产

国产光刻机的艰难往事

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就在形势一片向好时，美国开始了对中国芯片产业的围堵，十几年前的担忧最终成为了现实

如今中国的芯片产业链与国外虽然仍有差距，但与之前不同的是，国家政策持续发力，资金支持到位，工程师队伍不断壮大，产业链的各个环节也已今非昔比

胜利精密生产光刻机吗

如此情况下，这些芯片制造企业已不可能继续大规模采购EUV光刻机，对于更先进的High-NA EUV光刻机的采购也可能因此延期，毕竟市场需求不强的情况下，更先进的光刻机投资额巨大，会导致芯片制造企业承担巨大的风险

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对于光刻机来说，荷兰的asml公司是全球领域的霸主，占据了极高的市场份额，剩下的就是日本的佳能和尼康占据了一小部分市场

在整体的产品竞争力与市场发展来看，asml公司拥有绝对的话语权

不管是英特尔、三星、台积电，但凡是涉及到晶圆代工的厂商，都需要采购asml公司的光刻机作为主要生产设备

特别是用于生产制造2nm、1.8nm等制程的High-NA EUV光刻机初期版本将于明年年末引进，预计2025年末将正式商用

ASML明年交付首台High-NA EUV光刻机ASML首席技术官Martin van den Brink日前受访时表示，目前公司正有序推行其路线图，在EUV之后是High-NA EUV技术

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ASML正在准备向客户交付首台High-NA EUV光刻机，大概会在明年某个时间点完成

IBM表示，明年会推出量子为中心的超级计算机，实现对现在这种硅基芯片超算的碾压

而中国在量子计算这样的领域，肯定也不会借过，毕竟硅基芯片落后了后，我们更需要换道超车，在量子计算上领先才行

为此，国内也一直在研发量子芯片，量子计算机等，近日，安徽省量子计算工程研究中心传出消息，我国量子计算机“悟空”即将面世

光刻机央视

IBM生产量子芯片时，使用的也是类似的“无损探针台”，这次我们也研发出来了，也就意味着在量子芯片上，被光刻机卡脖子的历史，再也不会出现了

正如人民日报说的那样：关键核心技术是要不来、买不来、讨不来，若不自立自强，必有“卡脖子”之虞

国内企业应该放弃幻想，聚四海之气，借八方之力，自立自强不是关起门来搞科研

总而言之，与其对老美“松口”抱有幻想，还不如脚踏实地、身体力行地去完成全产业链的国产化替代，只有自己手中“有粮”，才能遇事不慌

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ASML又要停供中国光刻机?人民日报:放弃幻想