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在1998年又吸收由Ultratech Stepper新成立的美国先进光刻机公司进入到这个联盟型的公司，主攻极紫外光刻工具

此时，联盟里已经有了英特尔，摩托罗拉，AMD等一众行业大佬出资来推进极紫外光技术的研究和商业化，并且也和SVG光刻机公司签订了开发协议

小孩子幼儿园有很多光盘发下来，笔记本又没配备光驱。网上一搜，外置光驱就选中了这款。从价格上看并不便宜。主要谁买大牌，图省心，毕竟还是需要用长时间的。完美解决问题，连上笔记本就能用。希望能一直用下去。

实用主义，虽然弹出来那种感觉很山寨，但是好歹没什么问题，随便刻录了一张CD，效果很不错！

非常好，一开始没用起，找售后了解后用起了，效果非常棒，售后很热情，必须五星评起

自打U盘流行，硬盘容量大了之后，光驱就离我们越来越远了，刻录机也不例外，现在基本很少用到。因为喜爱无损音乐，而CD正是最好的载体，所以空着多年的光驱位又要启用了，当日下单次日即收到，趁孩子睡午觉立即刻了两张盘，刻录能支持最大速度，但我用的是最低速度来，一张CD刻好也只需十来分钟，刻好立即回放读碟，效果棒棒的，这光驱不管读还是读都叫我满意！

大品牌，质量很好，性价比很高，安装使用方便，读写速度很快，光盘质量好的时候声音很好，使用有的光盘时候有较大声音。

目前荷日的光刻机都采用的固定操作台，对于这样一个精密机器，工作台也需要做到极高的精度，EUV光刻机采用高精度激光干涉仪，以便降低光刻机的位移干扰

   总的来说，光刻机代表着人类机械加工的最高水平，对于一个国家的基础工业和精密加工技术都是极为严峻的考验

   日本和荷兰能够成为世界唯二两个可自主研发光刻机的国家，很大程度上都因为两国的加工能力起步很早

而台积电2021年拥有EUV光刻机近80台，这80台EUV光刻机直接用电8亿度，再加上间接用量（散热等设备），仅光刻机相关用量就超过10亿度，占到这191.9亿度电的5%+

考虑到台积电还在不断的推进5nm、3nm，需要更多的EUV光刻机，未来这个耗电量还会增加

EUV有多耗电？由于EUV光源的能源转换效率只有 0.02% 左右，所以输出功率只有250W的EUV光刻机，实际需要0.125万千瓦的电力，耗电量是DUV光刻机的10倍以上

而是先通过外包采购、委托其他厂商提升技术等方式快速发展壮大，具备了一定的实力后才开始步入研发合作的轨道

当美国等其他其他国家看到荷兰ASML 公司巨大的商业价值和发展潜力后，也纷纷加入到支持ASML公司的行列中来，如生产一台euv光刻机，大概10%的零件来自ASML自己，90%的零件来自其他国家

当前有能力制造出先进光刻机的企业，有荷兰ASML公司和日本的尼康公司等，其中荷兰ASML公司，是唯一一个有能力制造7纳米工艺制程的企业

如果加上三星和台积电的技术支持，那么就可以制造出更加先进的5纳米级别芯片

包装妥妥的。安装后马上试机，效果非常不错!老牌子不愧为老牌子，抵赞!光驱收到上机试了很稳定，以前一直用先锋DⅤD刻录光驱质量很好。

读写速度比较快，基本上没有噪音，关键是耐用，之前一直在用Dell的，但是基本上很容易坏，用先锋之后就很好

无论是28/45/65/90nm和0.18um这些节点均对第四代浸没式光刻机有着应用需求

终端市场推动了成熟制程的产品越来越多，比如汽车、IoT、传感器、功率、MCU等，成熟制程市场空间不断增长

不过有一个坏消息就是， 美国正在向ASML施压，希望他们禁止销售最先进的第四代浸没式光刻机给中国，而这相比于EUV极紫外光刻机，所造成的影响将更为严重

在东京买原装正品未拆封，好东西非常方便就开始使用了，外观也漂亮，轻薄设计、金属外壳黑色烤漆，看着就喜欢。 读盘速度：正常 读盘声音：轻 稳定性能：刚刚才用，感觉蛮稳定的 轻薄程度：轻薄设计，感觉舒服 外形外观：有金属感，漂亮 产品包装：完整、原装正品未拆封

自己几分钟换好了，刻了几个文件试试，很快，也没什么噪音，很不错，但愿能多用一阵子，先好评

ASML将面临更激烈的竞争

有网友表示，在财政困难的情况下，竟然拿出如此一笔巨款开发光刻机，相信俄罗斯是认真的，一旦研发成功或将也惠及中国半导体市场

到货拿回家就马上装上了，已经第二次买先锋牌的光驱，质量还是很好，很实用，京东快递小哥很有礼貌，服务很周到。

全球三大光刻机特点

使用了几次，才来评价，全五星全五分好评！质量不错，读盘速度挺快，同时购买了一款外置的，这个还没有用过过。相信先锋品牌的质量，相信京东自营货物品质。

安装十分方便 客服也耐心解答 十分良心的卖家 毫无疑问的好评 一定会下次再来的 特意买回来看我和老婆的结婚纪念照的 很不错的消费经历 你值得拥有

综合起来看，要想芯片制造水平达到7nm，需要EDA支持7nm，半导体材料也是支持7nm，半导体设备也支持7nm……而EUV光刻机只是其中的一种设备，就算我们突破了，美国或其它国家一样能够在其它设备、材料上卡住我们，因为目前国产的半导体材料、半导体设备，很多在28nm甚至更成熟的工艺，达到7nm的少之又少

中国买得到光刻机

也就是说，GAA (gate-all-around，简称 GAA) 架构的出现再次拯救了摩尔定律

据称，台积电N2将使用GAAFET（全环绕栅极晶体管）技术，于2025年开始量产

N2在性能、功效上有明显提升，不过晶体管密度在2025年的时代背景中可能显得提升效果不大

这项研究成果由台大电机系暨光电所教授吴志毅，与台湾积体电路和MIT研究团队共同完成，已在国际期刊Nature上发表，有助实现半导体1nm以下制程挑战

因为EUV光刻机，荷兰的损失是非常大的

从目前来看，EUV到DUV完全封堵，这意味着荷兰光刻机的损失进一步扩大，说雪上加霜也不为过，ASML的苦日子可能还在后头

因为芯片过剩，欧美对光刻机的需求在下滑

而整个2021年，ASML公司的光刻机在美国的销量累计下跌了20%

这意味着，美国的管制范围扩大了，中国的光刻机自主研发或成唯一出路

而对于荷兰来说，可能更加严重的打击还在后头

因为在此之前，美国并没有限制ASML向中国出货DUV，仅仅让ASML禁售了更加高端的7nm以下的极紫外光刻机EUV