美国联合欧洲,出动了国家三大实验室,联合美欧160多家科研单位耗费了十几年才攻克了EUV的理论难题
而ASML在制造的时候,可以获取到全球最顶级的零件,光源采用美国的Cymer,透镜是德国的蔡司,2010年,ASML向台积电交付首台EUV研发设备TWINSCAN NXE:3100系统
然而,这些方式使得我们光刻机的制造难度以及制造成本急剧增加,并且已逐步逼近物理极限
所以ASML想要研发出下一代的光刻机,2030年前还是很难完成的
事实上,现在全球市场上,第四代浸没式光刻机仍然是当前半导体制造的主力设备