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2nm、1nm全靠它!High-NA EUV光刻机2025年末将正式商用

3纳米代工市场规模2026年将达到242亿美元，比今年（12亿美元）增加20倍以上

目前，三星电子是唯一一家宣布成功量产3纳米的企业

三星电子、台积电、英特尔等主要半导体企业开始引进EUV设备，随着工程技术的发展，预计3纳米将成为核心先进工艺

这比ASML目前在售的双工件台EUV光刻机大概又贵了一倍

此前就有调侃说，一台EUV光刻系统相当于一架F22/35战机

彭博社介绍称，极紫外线（EUV）光刻机是阿斯麦生产的高端芯片制造设备

施赖纳马赫尔当时表示：“我们会做出自己的评估——我们是在与日本和美国等伙伴国家磋商后做出这一评估的

”她同时提到：“我们的出口许可政策已经有了限制

多家西方媒体报道称，美国也在鼓动和拉拢盟友加入打压中国半导体的阵营

彭博社提到，美国负责工业和安全的商务部副部长艾伦·埃斯特维兹本月将前往荷兰讨论出口管制问题

美方不仅施压荷兰政府拒绝批准阿斯麦公司向中国出售最先进的光刻机，还一直试图要求禁止该公司对华销售部分旧款光刻机

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老美做这些的目的只有一个：将我国排除在世界半导体产业链之外，遏制我国科技的发展，巩固自身的“科技霸权”！任正非曾表示，我国之所以无法实现高端芯片的自给自足，主要还是因为EUV光刻机被卡了脖子

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这个价格什么概念，资料显示重型航母（排水量60000吨以上）航母造价是35亿美金左右，而上述光刻机成本等同于f35战斗机造价（1.5-2.5亿美元）

自然要响应美国的政策，但是现如今经营出现问题，假如不向中国大陆出口DUV光刻机甚至面临破产危机，也就顾不上家国情怀了

其次则是光刻机零件上万，部分只有美国可以生产，因此美国与ASML可以说是相互依赖的关系

但是近年来我国加大了对于光刻机产业链的研发，像是上海微电子更是突破连连，中国产业链相对完善，现如今完全可以满足ASML的需求，因此ASML才有了跟美国撕破脸的底气

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如此种种都导致了荷兰和ASML在迅速转变态度，而且就在荷兰外贸与发展合作大臣发话后，ASML再度向中国供应光刻机，显示出ASML已开始抓紧机会抢占中国市场，荷兰和ASML似乎已迅速醒悟过来并抓住了机会，毕竟中国是全球最大的芯片市场，谁能抢占先机就能获得更多收入

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ASML主要处于中游，就是将上游的这些核心厂商、核心元件聚拢，然后自己再组装成一台光刻机

而下游则是台积电、三星、英特尔这三家，这三家为了支持ASML，曾入股ASML，成为ASML的股东，形成了利益共同利

所以很明显，ASML是将全球最顶尖的企业，都拉到了自己的阵营中，其它光刻机企业，要想制造出EUV光刻机，一是从ASML这撬墙角，将核心供应商撬走，但这太困难了

ASML在半导体领域的地位不用多说，它家的光刻机占了全球70%+的份额，而EUV光刻机的份额更是高达100%，至今没有第二家厂商能够生产出EUV光刻机

既然，光刻机这么难买，中国自己研究出来自己用不行吗？那么是否定的，了解光刻机的都知道，光刻机是由光刻机、刻蚀机、离子注入机、镀膜机等组成，蔡司镜片、遮光器、能量探测器等由5000个多个小器件组成，分别来自于不同的国家，其中蔡司镜头的制作工艺及其严格，一个镜片就由50层组成，而且镜片表面做得很光滑（制作要求非常高），中国虽然是世界第二大经济体，具有丰富的财力支持，但是光刻机不单单靠财力就能研究出来的，还需要靠浓厚的知识储备和顶尖的科技水平，这些中国还不能够达到，所以要想自己研究光刻机是非常困难的，而且也要投入大量的人力、物力、财力，研究起来也是艰难重重

ASML的CEO温彼得曾表示，中国不太可能独立研制出顶级的光刻机，即便直接给图纸，也造不出来

而但后来温彼得开始改口，表示如果断供中国光刻机，3年内中国将会得到这个技术

从今天来看，ASML被说服，倒向了美国一侧，也有其自身的不得已之处，美国或许也想要做最后一搏，在低端芯片市场也不给中国芯片的发展留空间

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光刻机（lithography）又叫光刻系统，是制造各种芯片所必不可少的一种设备，其主要是采用类似冲印照片的方式，将掩膜版上的精细图形通过光线印制到硅片上