滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

很好的刻录机，一直用这个牌子，便宜实惠，上一个用了5年，里面的皮带不行了，就又买个一个！

以前台式机用的就是这个品牌的光驱，老品牌值得信赖。读写速度还不错，比较薄，也不占地方，刻录的功能还没试，应该不会差到哪里去。很满意。

目前的顶尖芯片制造三强，台积电、三星、英特尔，通过长达20年的高级逻辑芯片的市场化的迭代发展，获得了大量的利润，进一步刺激资本一代又一代地投入先进技术的开发，从而形成一个良性的循环

比原子弹稀有

一直在京东购买东西，这次也是一样，买了一个这个产品，质量感觉也不错，加上现在又有活动，所以到手也比较便宜，这个还能刻录DVD光碟，更方便很实用，相信京东，相信京东自营产品，很省心，很快捷，很实惠，很效率

质量非常好，与描述的完全一致，非常满意,真的很喜欢，完全超出期望值，发货速度非常快，包装非常仔细、严实，服务态度很好，运送速度很快，很满意的N次购物

为什么这样说呢？在时间的推移下，拥有核武器，能够制造出核武器的国家已经达到9个之多，五常和巴基斯坦、印度、以色列以及朝鲜这9个，而全球的核弹数量相加，更是一个庞大的数字

近年来，美国为了遏制中国的科技发展，可谓是手段频出，先是对华为等中国科技公司泼脏水，以所谓“威胁国家安全”为由，联合盟友对中企发起制裁

在发现这种说辞难以得到各方认同后，拜登政府又开始对半导体行业下手，不仅建立起了一个“四方芯片联盟”，还强推芯片法案，禁止国内对华出口高端半导体设备，并鼓动他国响应此禁令

坚持要对华出口光刻机

可以说，荷兰是希望与中国保持良好关系，进而获取发展机会的，自然不愿响应美国的《芯片法案》，为他国利益损害中荷关系

其次，中国是全球半导体领域的最大买家，荷兰光刻机公司的设备，大部分都出口到了中国大陆

王丽萍研究生在读时，于2007年发表了1篇EUV光刻光学设计的论文，涉及两镜头微缩投影系统：《极紫外投影光刻两镜微缩投影系统的光学设计》

王丽萍2007年发表论文在这篇论文中，给出了一套MET工具的光学设计图，其数值孔径NA0.3，分辨力优于32nm、矩形视场为 300μm×500μm

因此，从工业化角度而言，我国开发EUV，即便是可以省略了四镜头的ETS工程验证机的环节，六镜头的ADT演示工具应该是目前合适的攻关环节

EBL电子束光刻机，大家可能熟悉了，前段时间美国公司Zyvex，就搞出了一台电子束光刻机(EBL)，并制造了768皮米（0.768nm），不过这种光刻方式速度慢，不可能用于在规模芯片制造

而纳米压印光刻技术，目前被佳能押注，目前佳能已经能够提供NIL光刻机，比如东芝，就一直想用NIL光刻机来生产NAND闪存，同时在NIL光刻专利中，佳能遥遥领先

发货快到货快送货快！京东物流就是快！包装严实到货完好无损！安装简单无需驱动。马上试用，非常流畅，运行稳定声音大小正常。刻录质量很好！

永远别那么绝对（Never say never），他们肯定会尝试的

”当地时间1月19日，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）CEO温彼得（Peter Wennink）表示

光刻机是芯片制造的核心设备，也是研发难度最大的半导体设备

该公司在过去一年经历许多挑战，市场需求比最大产能高出40%至50%

为提高对客户的支持，该公司选择缩短周期以运送更多设备，主要通过快速发货流程跳过工厂的一些测试，并在客户现场进行最终测试和正式验收

虽然这会使收入确认推迟到客户正式验收前，但能帮助客户提早进行晶圆生产

EUV光刻机太难太贵

当然，目前NIL光刻机还不能与EUV光刻机相比，NIL光刻机远远达不到EUV的精度，但未来能可就说不准了

DSA光刻，目前没有一定特定的厂商在下注，就像佳能对于NIL技术一样

但如下图所示，在NIL、EUV、DSA三大光刻机上，巨头们都早已布局了

这对于一般的晶圆企业而言，是不可承受的成本，所以一直以来，业界都探讨EUV光刻机的替代方案

目前已经被确定的替代EUV光刻机的方案已经有三种，分别是1、纳米压印光刻（NIL）；2、直接自组装（DSA）光刻；3、电子束光刻（EBL）

但是应付车规级功率芯片，足够了

很多人看到这个信息的第一眼，基本都是比较高兴的心情

之前美国持续给荷兰政府施压，限制asml公司出口给我们光刻机，但是asml公司一直没有妥协

这次asml供应给了我们一台光刻机，从表面上看，是asml顶住了美国政府的施压，完成了一台设备的交付任务，虽然不是EUV光刻机，但是也可以帮助我们发展了

可以的，声音小振动也小，支持的格式全面，试刻了一张CD很满意；还专门试了下DVD -RAM格式，也是支持读写的；颜值手感都很在线！就看寿命了，暂时是推荐购买的?

在早些年的时候，人们就已经意识到了光刻机作为未来科技领域发展的重头戏，很多资本家已经把视线放在光刻机上了，他们不惜耗费大量的资金，主要目的也是为了在光刻机领域里面能够分一杯羹

所以在那个时候很多的老牌资本主义国家，像美国，英国，德国，法国等一系列的国家，在光刻机领域里面都下了大资本研究，并有所成就

做工精致，读片性能很好，轻薄小巧携带方便，五星！还可以，价格很便宜了，电脑还是要装一个刻录机的，万一用了还是很方便的

不过奇怪的是，一向自诩尖端科技老大的美国，怎么这次在光刻机领域，不仅没能独占鳌头，甚至没赶上这两个小国家？这光刻机的技术，当真就比原子弹还要难吗？世界尖端光刻机在荷兰，为什么偏偏是它？日本作为原世界第二，工业发达，能造也不奇怪，今天我们来重点说说荷兰

而0.7nm，差不多相当于2个硅原子的宽度，也是理论上硅基芯片的最高精度，所以很多人认为，当芯片精度达到了1.8nm以后，可能EUV光刻机也不行了，要使用Zyvex公司研发出的这种光刻技术了

Zyvex公司的光刻技术，是啥技术？其光刻系统命名为为ZyvexLitho1，是基于STM扫描隧道显微镜，使用的是EBL电子束光刻方式，与极紫外线没有任何关系，称之为电子束光刻机，可能更合适一点

至于1.8nm以下，用什么光刻机？反正ASML现在还没规划，因为1.8nm后，技术又会怎么样变化，谁也不清楚