△距氢（H）钝化硅表面约1nm的W扫描隧穿显微镜（STM）尖端电子似乎不太可能只遵循暴露单个氢原子所需的实心箭头路径
为了解决这个谜团，必须了解电子实际上不是从尖端发射（在成像和原子精密光刻模式下），而是从样品到尖端（在成像模式下）或从尖端到样品（在光刻模式下）模式
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数据显示，光刻胶中的沉积能量不会下降到光束中心的10%，直到径向距离约为4nm
使用HDL，实验团队能够暴露比EBL的10%阈值半径小>10倍的单个原子
这个小得多的曝光区域令人惊讶，因为HDL不使用光学器件，只是将钨金属尖端放置在H钝化硅样品上方约1nm处
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光驱外观好看，包装店家很用心，上机试了一下，读取光碟内容很快，播放没有卡顿，特意用了几天才来评价，希望对大家有所帮助 读盘速度：快 读盘声音：没有声音 稳定性能：非常稳定 轻薄程度：非常薄 外形外观：漂亮，高档大气上档次 产品包装：完美
读碟挑剔，咨询客服，无回复。拿到手沉甸甸的，包装很好，装机试了一下，读盘很快，稳定，希望用的久一些
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单个命令或脚本的命令行界面
内置和用户编写脚本的脚本菜单
多种模式输入模式——如几何形状、矢量列表、黑白位图
内置计量：提供无损成像模式，以便新图案可以与旧图案对齐，并且可以在写入后检查图案质量
一、实现更高的分辨率和精度的关键：氢去钝化光刻ZyvexLitho1所采用自我显影的电子束光刻(EBL)技术的核心是使用氢去钝化光刻(HDL)从Si(100) 2×1二聚体列（dimer row）重建表面去除氢（H）原子
如果开发得当，APM 允许灵活制造各种产品，从设计材料到超级计算机再到先进的医疗设备
在创办 Zyvex Corporation 之前，Jim 作为软件企业家的背景使他意识到 APM（创建“数字物质”）可以比任何现有技术更有效、更准确和更具成本效益地制造产品
之前自己有一个黑色的，用着不错，就照样子又买了一个，黑白双煞。物流很快，基本上下单后第2天到货，产品用起来也很方便，不需要安装刻录软件。