ASML在半导体领域的地位不用多说,它家的光刻机占了全球70%+的份额,而EUV光刻机的份额更是高达100%,至今没有第二家厂商能够生产出EUV光刻机
所以目前任何需要大规模制造7nm及以下制程的晶圆厂,都得求ASML,因为一旦没有EUV光刻机,7nm及以下的芯片就制造不出来
过去的这许多年,有众多的企业都想替代ASML,比如尼康、佳能,甚至还有上海微电子,大家都在光刻机上发力,想推出EUV光刻机,甚至换一个方向,用另外的技术来实现EUV光刻机的功能,但暂时都没有成功
ASML在半导体领域的地位不用多说,它家的光刻机占了全球70%+的份额,而EUV光刻机的份额更是高达100%,至今没有第二家厂商能够生产出EUV光刻机
所以目前任何需要大规模制造7nm及以下制程的晶圆厂,都得求ASML,因为一旦没有EUV光刻机,7nm及以下的芯片就制造不出来
过去的这许多年,有众多的企业都想替代ASML,比如尼康、佳能,甚至还有上海微电子,大家都在光刻机上发力,想推出EUV光刻机,甚至换一个方向,用另外的技术来实现EUV光刻机的功能,但暂时都没有成功
其中EUV极紫外光源由中科院长春光机所负责技术攻关;光刻机双工件台系统由清华大学/华卓精科负责技术攻关;高NA浸没光学系统由长春国科精密光学负责技术攻关;EUV光刻胶由中国科学院化学研究所/中国科学院理化技术研究所联合攻关研发
国产芯片国产光刻机开始突破作为芯片制造产业中最重要的一环,光刻机的作用自然非常重要
伴随着芯片产业链上的其他设备如蚀刻机等已经突破至5nm,国产芯片产业也愈发完善,而光刻机也成为最后一个需要攻克的技术难关
光刻机技术取得突破其实国内对于光刻机同样十分重视,早在2006年就开始实施《极大规模集成电路制造技术及成套工艺》项目,其中光刻机在16个重大专项任务中排名第二,因此也被称为“02专项”
早前中国招标28台光刻机的时候,其中21台给了日本光刻机企业,7台给了中国大陆的企业;中国的芯片封测企业已在封装技术方面推出了5nm芯粒技术,还在量子芯片、光子芯片等技术方面取得突破,显示出中国正在决意绕开ASML的EUV光刻机
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市场调研机构TrendForce集邦咨询发布的数据显示,2022年一季度,中芯国际(5.6%)、华虹集团(3.2%)、晶合集成(1.4%)三家中国大陆企业,合计在全球晶圆代工市场占据10.2%的市场份额,这是大陆企业首次在晶圆代工领域突破10%的市场占有率
业界普遍认为,荷兰政府主动施压阿斯麦禁止DUV对华出口的可能性也很小
抛开对中荷关系的损害,阿斯麦作为一家2000亿美元市值的企业,对荷兰的重要性不言而喻,而中国大陆又是阿斯麦无法忽视的市场
很好,轻薄,声音也小,速度不错,还没有拆开用,现在计算机配光驱的不多了,买个外置的特殊场合备用,很是不错
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三星方面,据韩媒 Business Korea 报道,李在镕 6 月 14 日造访 ASML 荷兰总部时,拜会了 ASML 首席执行官 Peter Wennink 等高管,广泛讨论半导体技术的未来、市场前景及 EUV 设备的供应,并取得“额外”的 EUV 光刻机设备
那么为什么芯片的制造这么难呢?其实最主要的一个原因就在于光刻机的制造,光刻机,是在芯片制造当中必须要有的一个步骤,它是利用紫外线去除晶圆表面的保护膜,用于完成这一步骤的机器就必须是光刻机
所以如果在国家的芯片制造上没有光刻机的话,那么想要研制出芯片几乎是没有办法呈现
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当地时间周五(11月25日),荷兰外贸与发展合作大臣莉谢·施赖纳马赫尔表示,荷兰正与美国政府就关于向中国出口光刻机的新限制进行谈判
近年来,美国在对华政策上实行胁迫外交,多次施压其盟国限制如光刻机等高科技产品等出口
其中,荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)因为在芯片行业中占据极其重要的地位,成了美国政府的重点“关照”对象,该公司占全球光刻机市场份额的60%以上
自2018年以来,在美国的压力之下,荷兰政府一直禁止阿斯麦向中国出口其最先进的极紫外线光刻机(EUV),但仍可以销售上一代的深紫外线光刻机(DUV)
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第一台高NA光刻机EXE:5000将在IMEC和ASML的联合实验室安装1990-2020年的光刻机代差从1990-2030年的半导体发展路径图上,我们可以看到大致上,2005-2019年经历了两个主要代差:1,浸液式DUV光刻(2007-2012年);2,浸液式多重曝光DUV光刻(2012-2019年);3,NA0.33EUV光刻机(2011-2020年)
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而双边的这一正常的商业往来却引起了美国方面的忌惮,美国方面多次派人前往荷兰进行施压,要求荷兰不得向我们提供光刻机,但是屡次遭到了荷兰的拒绝
荷兰外贸与发展合作大臣施赖纳马赫尔公开表示,在对华提供半导体设备上, 荷兰将会坚定地捍卫自己的经济利益
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