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光刻机_雕刻机_曝光系统

光刻机掩膜测试图形,中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源

自己几分钟换好了,刻了几个文件试试,很快,也没什么噪音,很不错,但愿能多用一阵子,先好评

先锋的刻录机确实很稳定,效果也很好,已经用了好几个了,又买了一个感觉,确实不错。小巧玲珑,播放翻录效果都好,很安静,刻录还没用暂不需要,是一款超赞的小光驱!拍照为证。

2005年美国加州伯克利劳伦斯实验室的NA0.3的MET工具这篇论文给出了一份测试结果,展示了30nm和25nm的等线宽线距(L/S)的曝光能力,可以看到30纳米等L/S曝光结构非常清晰

而曝光28.8纳米的独立线条,仍可以获得非常高精度的曝光图案

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