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光刻机_雕刻机_曝光系统

不只光刻机,全世界光刻机技术

在芯片设计上,28纳米工艺只需要4280万美元,7纳米则需要2.486亿美元,3纳米已经需要5.811亿美元,2纳米预计需要7.248亿美元,所以一颗3纳米芯片的设计成本,就是28纳米工艺的近14倍,超40亿人民币

虽然先进工艺用最短的时间解决了芯片性能的问题,但是很快,新的问题也暴露了出来,那就是成本,先进工艺无论是从芯片的设计还是制造,成本都成倍的提升,这种提升的幅度,即便是全球顶尖的芯片巨头,也都难以承受,例如苹果

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这种成本所暴露的问题,在光刻机上也开始显露

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这样的操作看似简单,但却全程保持着纳米级别的精密加工

尤其是光刻机从DUV迭代到EUV后,加工精度更加夸张,对中国的光刻机制造单位而言,突破精度的技术壁垒,比登天还难

哪怕是我们有幸得到了最先进的EUV光刻机实物,也因为达不到相同的加工精度而无法国产

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光刻机的工作过程示意图第二就是工作台的高精度移动,因为要配合芯片加工的情况,工作台在工作的时候必须要保持同步精准,不然即使光刻技术没问题,也会因为细小的偏差功亏一篑

此外还有耗电、反射镜等高新技术问题,都是光刻机能否顺利制造的关键

首先EUV光刻机的总重量达到了180吨,需要几十个集装箱运输,并且即使运到了地点也要准备一年的时间等待安装调试

可以看出,光刻机绝对不是大家想象中的“小玩意儿”,它是非常庞大和复杂的

每一个零部件的调试都至关重要目前的高端光刻机的制造主要面对几个技术难题,第一就是解决“光源”的问题

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那么,大家认为能够拥有如此高超的研发能力,掌握这样核心技术的国家会是哪两个呢?许多人可能第一时间就想到了美国,毕竟美国一直在不少领域都掌握了核心科技

但实际上,掌握主流光刻技术的两个国家分别是荷兰和日本,就连美国的光刻机也只能依靠进口

从目前的情况来看,高端光刻胶当中日本所占的份额最多,其中生产的企业有日立化成、东京应化、日本富士胶片等等

此外其他用于制备光刻机的原材料也常常出现短缺的情况,尤其是在政治博弈的背景之下,我国在这方面总是会被“卡脖子”

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同时本身就是一些简单的研制产品,所以在研发的投入上也需要有很多的技术支撑,这对于我国的整体发展,而言是一个比较大的难度

而这些纳米级芯片的制造,对于工作环境的要求也很高,所以即使光科技有所保证的情形之,而难以找到一些广大的用工地,所以说在整体的发展上,中国的芯片制造都面临着很多的困难

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而光刻机可以直接地理解成一个成像的设备,就是将一些设置好的图案,利用电路图形将它直接到晶园上,这样才能够让制造出来的芯片有价值

而除开这样的雕刻技术之外,还有一个难以超越,就在于芯片制造的主要单位是纳米,所以还需要有纳米级别的精准度,不然也没有办法完成

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资料显示,从1968年半导体IC由实验室走向工业大生产算起到现在,集成度提高了约百亿倍,最小特征尺寸图形的加工线条宽度缩小到原来的约1/10000

一张小小的芯片就含有几十亿个晶体管当然作为一项可以与原子弹制造比肩的高新技术,光刻机的发展也是经过长期积淀的,所以根据所用光源的改进以及工业创新,光刻机前后经历了大约“5代产品”

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实用主义,虽然弹出来那种感觉很山寨,但是好歹没什么问题,随便刻录了一张CD,效果很不错!

那么荷兰是如何做到的?

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