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制造光刻机为何这么难

国产9纳米光刻机样机

一直信赖先锋品牌，做影视传媒的必须用到光驱，非常好用，即插即用，读盘飞快，声音也很轻，速度快，使用稳定，刻dvd和bd都非常好用，没有飞盘，脱离。推荐朋友也用这个品牌，性价比超高，而且几乎也没有声音，稳定用几年不出故障，京东物流速度也非常快，十几年前就用先锋光驱，这也是一中情怀，下次光驱依然还是先锋，就这价钱和这服务，完美！

大品牌！值得信赖的！效果超级好！贵有贵的道理！很棒的商品！像之前的时候一直不知道先锋的光驱都没有，然后通过搜索之后啊，现在用光驱呀，就在先锋的光驱，真的是业界的精品。真的是挺不错的，嗯，反正是课本的话，然后速度超快，而且还稳定。小逼之前用的那种lg的还行的那种都好的太多了，真的是在大家都来购买。

国产光刻机突破在即

其中EUV极紫外光源由中科院长春光机所负责技术攻关；光刻机双工件台系统由清华大学/华卓精科负责技术攻关；高NA浸没光学系统由长春国科精密光学负责技术攻关；EUV光刻胶由中国科学院化学研究所/中国科学院理化技术研究所联合攻关研发

为了完成光刻机的研发需要多个部门和机构协同合作，国内多个顶级研究院以及大学都参与到了光刻机的研发之中

国产光刻机除了上述已知的企业和研究所之外，还有更多的科研机构在默默地进行着光刻机技术的研发和突破，也正是在齐心协力之下，第一台可用于28nm芯片制造的国产光刻机也有望于近期亮相

这个价格什么概念，资料显示重型航母（排水量60000吨以上）航母造价是35亿美金左右，而上述光刻机成本等同于f35战斗机造价（1.5-2.5亿美元）

尽管如此昂贵，但Intel此前表示自己是全球第一个下单的客户，台积电也跟进了

回国之后就想着购置一台主流的台式机，平时偶尔玩玩游戏，同时需要能满足某些诸如Photoshop，Matlab等专业性的需求，无奈品牌机很少能两者兼顾，性价比也不是很高，于是萌发出自行组装的想法。趁着这次京东618活动，一次性买齐所有组件，全部是京东自营购入，主要也是看重正品及售后保障。主机的配置如下：Intel i7 8700 + 微星B360M迫击炮 + 微星GTX1650 + 威刚内存（8G*2 DDR4 3000）+ Intel 760P SSD 256G + Seagate HDD 1** + 先锋DVD光驱 + 先马机箱电源600W + 飞利浦显示屏。Intel i7 8700性能十分强劲，SSD能够使机器实现秒开，与之前笔记本的对比还是相当明显的；微星主板一如既往地可靠，迫击炮这款可谓是短小精悍，接口齐全，之所以选择GTX1650，也是兼顾成本与实际需求，虽说比不上国际3A大作特效全开，但是应付古剑三等还是绰绰有余；希捷硬盘值得信赖，2.5寸的已经入手好几块，十分便捷；先马的机箱内部空间相当大，走背线完全没问题，考虑到以后可能的升级，电源选择600W全模组，用到目前相当稳定；复古式机箱搭配Pioneer光驱，以前的光碟也完全可以应付。另外，尽管是618，各个自营店的物流速度相当快，这次的购机体验很好！很满意！

而之所以是一条捷径，是因为还没有找到其他更好的办法，这样的情况让台积电和ASML迅速崛起，台积电可以提供最先进的制造工艺，而ASML可以提供支撑最先进工艺的光刻机

在芯片制造上，28纳米晶圆的价格是3000美元，7纳米是10000美元，5纳米是16000美元，3纳米是超20000美元，3纳米晶圆的成本是28纳米的约7倍

帮同事买的，品质一流，狠满意的一次购物。读盘能力强，噪音小，读取速度快，刻录时间和刻录质量稳定，同事都说好。包装完整，物流非常快，超级赞！！

但是这么多重点，主要应该抓哪些呢？最终四个国际上发展很快，而我国还处于空白的领域，成为了最重要、最紧急的“四大紧急措施”，其中之一，便是半导体

1961 年，美国GCA 公司制造出了第一台接触式光刻机

关于我国最早的光刻机，有一种说法是1966年，中国科学院微电子研究所的前身——109厂与上海光学仪器厂协作，研制成功我国第一台65型接触式光刻机

款式很时尚，刻录速度非常快，效果很好，以后还会再来购买。宝贝与描述基本一致，发货很快，值得一买 刻录速度效果相当的好

目前的硅基芯片性能提升主要依赖芯片制造工艺的提升，然而业界都清楚硅基芯片的极限是1nm，而目前最先进的芯片制造工艺是3nm却已面临巨大困难，三星的3nm工艺技术更先进但是良率太低，台积电的3nm工艺基于成熟的FinFET技术却导致性能提升有限而成本过高被苹果舍弃

3nm工艺尚且面临诸多困难，更别谈难度更大的2nm工艺了，2nm工艺能否如期在2025年量产存在很大的不确定性，再有就是2nm工艺需要采用ASML第二代EUV光刻机，而第二代EUV光刻机将比目前的EUV光刻机贵两倍多，工艺生产的耗电成本也是倍速上涨，性能提升和成本未必达到经济成本

国产90nm的光刻机

到货拿回家就马上装上了，已经第二次买先锋牌的光驱，质量还是很好，很实用，京东快递小哥很有礼貌，服务很周到。

因为实践表示，3次曝光会导致良率大幅度下降，4、5次良率可能会低到没法想象，晶圆厂们的成本高到没法承受，不如买一台更高级光刻机，成本还低一些

所以，目前国内在努力的研发28nm的光刻机，这样经过两次曝光后，可以搞定14nm，至于7nm工艺，那最好还是期待EUV光刻机，用28nm的来曝光三次，良率没法看

中国的光刻机是什么水平

挺好用的，多了一根电源线，对功率小的笔记本很有好处，刻录速度不错，不易刻录失败。好用。白色颜值很高

新开办公司，之前配置过四台，这一次配了一台全是办公高配的，物流快，发票齐全，自己组装价格质量也还放心，希望京东无假货！上个全图吧。组装花了两小时。一次点亮。

当然，硅基芯片，也不需要这种电子束光刻机，这么高的精度更多还是用于量子计算芯片，制造出一些高精度的量子器件，纳米器材等

另外就是，EBL电子束光刻机，产能非常低，至少在目前大规模制造芯片也不现实，只能小规模的制造量子计算的芯片，至于未来能不能技术改进，提高产能，进而取代EUV光刻机，还不清楚

而在精度方面，90nm肯定没问题的，同时经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以达到22nm左右的水平

那么能不能四次曝光，五次曝光，将精度提升上去？事实上，在实际使用中，2次曝光就已经很厉害了，像ASML等的光刻机 ，大多也只是进行2次曝光

因为实践表示，3次曝光会导致良率大幅度下降，4、5次良率可能会低到没法想象，晶圆厂们的成本高到没法承受，不如买一台更高级光刻机，成本还低一些

不过也有人称，光刻机所指的精度，并不是指能制造芯片的精度，光刻机可以通过多次曝光，提升分辨率的，那么问题就来了，上海微电子的90nm光刻机，最多能生产多少纳米的芯片？据资料显示，目前上海微电子的90nm的光刻机，主要用于电源管理芯片、LCD驱动芯片、WiFI芯片、射频芯片、各类数模混合电路等

如上图所示，这是4大厂商的光刻机精度

其中用于7nm及以下芯片制造的EUV光刻机，只有ASML能够生产

而尼康能搞定高端的7-28nm的AiF+浸润式光刻机，但佳能、上海微电子却还停留在90nm，只能生产低端的光刻机