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坚决不照搬美国对华政策:把光刻机给美国会更糟糕

这番话说得已经很委婉了，所谓不必要的技术，说直白一些，就是美国的监听监控技术，最终将会导致荷兰彻底丧失技术优势

荷兰不是一个大国，能够在尖端技术上保持领先，关乎着荷兰的战略利益，把阿麦斯握在自己手里，荷兰的战略利益就有保障，如果交给了美国，荷兰必将受制于美国

此前，施赖纳马赫尔曾强调，荷兰不会完全照搬美国的对华政策，会做出自己的权衡判断

施赖纳马赫尔指出荷兰对华出口政策上的考量，她重点着墨于荷兰自身的需求：希望保持技术领先，避免形成战略依赖，避免使用一些不必要的技术

而0.7nm，差不多相当于2个硅原子的宽度，也是理论上硅基芯片的最高精度，所以很多人认为，当芯片精度达到了1.8nm以后，可能EUV光刻机也不行了，要使用Zyvex公司研发出的这种光刻技术了

Zyvex公司的光刻技术，是啥技术？其光刻系统命名为为ZyvexLitho1，是基于STM扫描隧道显微镜，使用的是EBL电子束光刻方式，与极紫外线没有任何关系，称之为电子束光刻机，可能更合适一点

读盘速度：满意 轻薄程度：满意 外形外观：漂亮 读盘声音：很轻哦 稳定性能：优异 产品包装：简约不失大气

一直用的这个品牌的，质量非常好，还没上手用新买的，希望能够好用，一次买了两个，办公方便。

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国产光刻机的艰难往事

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光驱很漂亮，启动的声音很小，弹出非常平稳。希望能够用的时间久一些。读盘速度：很快读盘声音：声音小，几乎听不到产品包装：精美

可一旦事情发展到了这一步，那美国就会成为最大的赢家，对此，荷兰清楚地知道其中的利弊

现如今，中国正慢慢成长为荷兰最大的贸易伙伴，双边贸易量逐年递增，表明两国之间合作不但前景光明，而且好处也很多

总之，荷兰现在拒绝配合美国对华封锁计划，至少能够让我们确定一点，那就是荷兰在中荷经贸关系密切的情况下，短期内不会改变对中国的态度

在上个月，美国政府颁布了一项新的法案，该法案将对中国的芯片进口，进行更严格的限制

而且，美国不仅仅是自己限制中国，他们还要求荷兰，日本以及韩国一道遵守他们的新法案，继续对中国的半导体行业实施管制

先锋内置DⅤD刻录光驱读盘很稳定，声音还好，使用方便。可以播放4k电影，可以刻录4k电影，功能强大，强烈推荐大家购买。

当然，ASML肯定不会承认是怕别的技术或厂商抢了市场，只说自己是看到市场需求过大，供不应求，所以才扩产的

但事实是，当一个市场，只有一家企业能提供产品时，这个市场就是被垄断着的，所以ASML就算再增加产能，也一定会有其它厂商有其它想法

在政策的大力支持下，芯片行业进入了海归创业和民企崛起的时代，国产光刻机事业再次艰难起步

此时，国际上光刻光源已经被困在193nm长达20年，最终台积电在2002年提出了浸入式光刻方案，阿斯麦也凭此击败尼康，成为新一代光刻机霸主

一直都蛮喜欢先锋，在华硕和先锋两个品牌面前纠结了好久，最后还是选择了先锋，读书的时候就是只用先锋，现在还是选择先锋，质感非常不错哦，小日本的东西还是不错的！便携式给客户刻录碟片非常方便！给京东一个大大的好评！赞！

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佳能一直非常重视NIL纳米压印技术，甚至在2021年就造出了机器，被铠侠用于NAND闪存制造中，只不过目前精度还不太够，不能替代EUV光刻机

但在NIL技术上，佳能的专利最多，技术最成熟、最先进，很明显，佳能就押注这个技术了

很遗憾

简单的白色包装。简单的安装。简单的使用。速度还是很快了。能上25m/s。声音也不算大。信任京东，还没用，应该没问题。物流超快。

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读盘速度：读盘很快，速度很美，相当不错 读盘声音：很安静，振动也很小，不错！ 稳定性能：长时间使用，经常用，能稳定运行两年多，前一个也是这一款！ 轻薄程度：台式机用，厚度固定了，这个无所谓了！ 外形外观：外形就那样，台式机光驱没有啥特别的外形！ 产品包装：包装很好，外面是个纸箱，里面是商品的包装，有减震

国产量子芯片“光刻机”取得重大进展

光刻机的产量

目前的硅基芯片性能提升主要依赖芯片制造工艺的提升，然而业界都清楚硅基芯片的极限是1nm，而目前最先进的芯片制造工艺是3nm却已面临巨大困难，三星的3nm工艺技术更先进但是良率太低，台积电的3nm工艺基于成熟的FinFET技术却导致性能提升有限而成本过高被苹果舍弃

如上图所示，这是4大厂商的光刻机精度

其中用于7nm及以下芯片制造的EUV光刻机，只有ASML能够生产

而尼康能搞定高端的7-28nm的AiF+浸润式光刻机，但佳能、上海微电子却还停留在90nm，只能生产低端的光刻机

回来就试了一下，挺好，声音超级小，耳朵贴上去才能听到声音，好评！东西不错物美价廉关键是在也不用担心坏了来回@京东上门换新这点我非常喜欢

不过也有人称，光刻机所指的精度，并不是指能制造芯片的精度，光刻机可以通过多次曝光，提升分辨率的，那么问题就来了，上海微电子的90nm光刻机，最多能生产多少纳米的芯片？据资料显示，目前上海微电子的90nm的光刻机，主要用于电源管理芯片、LCD驱动芯片、WiFI芯片、射频芯片、各类数模混合电路等

如上图所示，这是4大厂商的光刻机精度

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而在精度方面，90nm肯定没问题的，同时经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以达到22nm左右的水平