滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

这种外置光驱非常好用，买来刻录cd用的，用完可以带走。非常好的一款刻录机，大品牌，值得信赖，而且这个也比较专业吧！

随后他却还强调，若是荷兰将这个问题放进“欧盟的篮子”，与美国进行谈判，将深紫外线光刻机送到美国人手中，那么荷兰所面临的情况会更糟

美媒分析认为，施赖纳马赫尔的这番表态，表明荷兰拒绝顺从华盛顿的企图，不愿切断对中国半导体的技术供应

读盘速度：读盘速度快，我喜欢。读盘声音：声音也不大，不像二手的。稳定性能：性能也很稳定。非常好用，以前不能读取的光盘现在可以了。刻录功能是我的首先。还没试，稍后有空再操作！

稳定性能：非常稳定 读盘速度：速度快 读盘声音：无噪音 外形外观：精致美观 轻薄程度：轻薄

上海官方前不久已正式确认，90nm国产光刻机已经取得突破，而上海微电子自研的28nm浸润式光刻机也即将完成技术认证

这意味着，在中低端光刻机市场，ASML将不再是唯一的选择

也许同类的国产光刻机设备暂时还不如ASML的好看好用，但在关键时刻进行替代却也是绰绰有余

点单位光盘。以前就用的先锋的。品质非常好，用了好多年了，所以这厮继续购买。商品应该不错。待会儿去试用，用好了再来评价。希望这个产品也好，哪，有一些优惠活动。这样。可以在购买很多。另外价格教师再降点就好。

而DUV光刻机的光源，我们很早就已经实现了突破，国产替代完全没有问题

所以ASML才说，DUV光刻机已经是一项成熟的技术，言下之意，如果我不卖，那我很快就会被替代

事实上，我们国产DUV光刻机的高端部分，近年来，各个主要零部件，已经纷纷进入中试阶段，距离量产已经是一步之遥

读盘速度：读取速度超级快4K蓝光整盘读取最快5分钟搞定！ 读盘声音：静音效果好，不会出现明显共振和跳盘及其他杂声噪音问题出现。 稳定性能：支持UHD 的4K蓝光盘读写！这点非常棒，是我买这款光驱最重要的原因。稳定性非常好，连续读写不降速。 轻薄程度：正常5.25光驱位或者移动光驱盒都能非常完美安装。 外形外观：外观漂亮，新款带类钢琴烤漆面的一体式面板，比老款好看很多。 产品包装：包装精致，不知道是不是因为是国内总代的关系，所有一次性封贴都是索厉的。

2008年装电脑时，就用的先锋品牌的光驱，之后又加了刻录光驱。质量一直很稳定。同学强烈推荐此品牌。质量上也真的无可挑剔。今年电脑坏了。主板不行了。用了十二年的电脑。终于可以彻底休息了。新配的主机主板没有IDE接口，为了家里的光盘不成彻底的废物，新买了SATA接口的光驱。质量一如既往的好。

刻碟速度很快，CD碟5分钟内刻完，大品牌，质量有保障，物美价廉，值得信赖。先锋(Pioneer) 16X内置蓝光刻录机质量非常好 长期使用中 值得信赖 好评五星

回来就试了一下，挺好，声音超级小，耳朵贴上去才能听到声音，好评！东西不错物美价廉关键是在也不用担心坏了来回@京东上门换新这点我非常喜欢

而受到影响最大的，应该就是ASML，因为市场对EUV光刻机的依赖性将会降低，事实上，在芯粒和先进封装技术被应用后，这种对EUV光刻机的依赖性已经出现降低的现象，例如无论是英特尔的欧洲工厂还是台积电的美国工厂，都没有采购新的EUV光刻机，而是通过移机的形式，即采用老工厂的旧设备，台积电甚至还将3纳米工艺的产能缩减了约8成，7纳米工艺的一座新厂也被取消

ASML恐始料未及

Pioneer 外置光驱很好使用，兼容macOS系统，读碟声音很小。很好的一款光驱，先锋品牌质量不错，虽没有用同样给予好评！

▲ 临港重装备产业区F16-01地块项目根据公开资料显示，鼎泰匠芯母公司是闻天下科技集团有限公司，闻天下旗下的闻泰科技（安世半导体）是全球知名的半导体IDM企业，在功率半导体领域形成了产品设计、仿真、制造、封装、测试、标定、可靠性试验验证等一系列IDM核心技术能力，在车规级半导体领域处于全球领先，对晶圆制造建厂、设备、工艺及产品等都有着丰富的认知和实践经验

为了遏制中国科技发展，美方不仅施压荷兰光刻机制造商阿斯麦（ASML）禁止向我国出售14nm及以下工艺的DUV光刻机，还一直试图要求该公司禁止对华销售部分旧款光刻机，以及所有制造芯片所需的主流技术

外媒：中国半导体“大势已定”作为我国半导体芯片发展的最前沿阵地，上海“东方芯港”也投入了众多的人力物力资源，在经过众多企业的不断努力以后，我们也终于在光刻机、刻蚀机、光刻胶材料等等领域实现了突破；虽然说我们现在还无法与台积电和三星的5nm工艺制程技术相提并论，对此外媒也纷纷表示：中国半导体的发展也早已经“大势已定”！突破90nm光刻机，可量产14nm芯片如今，上海公布了在集成电路领域取得的一些成果，在90nm光刻机领域已经进行了突破，并能生产14nm芯片；而且在5nm先进的蚀刻机领域也已经有所突破，从目前的发展情况来看，不得不说上海“东方芯港”的发展速度还是比较快的；其中上海微电子已经成功的实现了90nm光刻机的突破，而5nm刻蚀机则由中微公司领头破冰，其生产的5nm蚀刻机甚至已经被台积电所采用；而中芯国际经过这么年时间的发展，其N+1和N+2工艺技术应该也早已经能实现14nm芯片的量产！目前来看，现在中国半导体已经“大势已定”，在这些头部芯片企业的不断努力下，在芯片设计、制造、封装三个环节中，我们已经进行了技术突破，除了光刻机和蚀刻机以外，在芯片设计的EDA软件领域，国内的华大九天也已经宣布可以在28nm提供模拟全流程EDA工具；这也让我们不用担心再被EDA工业软件给卡脖子；而在芯片架构领域，国内的阿里、华为海思都已经成功的打造了开源的开源架构RISC-V，另外，国产龙芯中科也自研了LoongArch指令集架构