而DUV光刻机又分为ArFi光刻机,用于45-7nm;而ArF Dry用于65nm,还有KrF用于180nm等等
目前全球的光刻机厂商,真不多,特别是用于芯片制造的,也就是前道光刻机,全球也就四家,分别是ASML、日本的佳能、尼康、上海微电子
超级好的光速啊,十年前买的一个一直都在用,用不坏的先锋,还会再买这个牌子的。。。。
众所周知,目前所有的芯片制造,均要经过光刻这么一个工艺,所以光刻机是必不可少的半导体设备
而光刻机与芯片的工艺是相对应的,比如EUV光刻机用于7nm及以下,DUV光刻机用于7-180nm