滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

在上个月，美国政府颁布了一项新的法案，该法案将对中国的芯片进口，进行更严格的限制

而且，美国不仅仅是自己限制中国，他们还要求荷兰，日本以及韩国一道遵守他们的新法案，继续对中国的半导体行业实施管制

作为全球光刻机龙头企业的阿斯麦，当然难逃美国人的视线，这些天来，美国政府不止一次要求他们在这一问题上，亮明自身的态度

更何况，半导体行业已经走上了全球化的道路，荷兰虽然有最好的光刻机，但也有九成以上的原材料，需要从中国进口

也就是说，中国跟荷兰两国之间的关系，其实是对等了，双方都有“卡对方脖子”的能力

目前最先进的光刻机分为两种:EUV（极紫外光）和DUV光刻机（深紫外光），极紫外光刻机的波长是13.5nm，而合理制程为3-7nm，光刻机最重要的是投影就是通过光将电路图案通过镜片放大投影到硅片上（跟平常上课用的投影仪一样），但是极紫外光很难获取到，要通过特殊的手段，首先是光源，极紫外光在电磁波光谱中属于短波，在光刻机中使用193nm的光源变成13.5nm的光源，一直困扰科学家多年，直到一位科学家提出通过击打锡滴来获取更短的波长，但是由于光刻机的光源通过各种反光镜的传输，实际收到的光源强度只有2％，所以有科学家提出击打两次来提高光强

买了一段时间,非常好用……先锋大品牌、京东自营值得信赖,保修无忧。物流快捷下单第二天就到货,快递小哥服务态度? 读盘速度：8X-48X,刻录速度 12X-48X 读盘声音：很小 稳定性能：供电稳定,高速运转稳定性好 轻薄程度：正常光驱大小 产品包装：完好、简洁 需要还会光顾?

华特气体光刻机

据称，目前国内正在研发28nm精度的光刻机，那么经过2次曝光后，能够达到14nm，然后可以尝试性的进行第三次曝光，然后有可能迈入7nm

当然，以上只是猜测，因为精度越高的光刻机，多次曝光的难度也就越高了，一切还得看真机的实测才行

外媒：中国半导体“大势已定”作为我国半导体芯片发展的最前沿阵地，上海“东方芯港”也投入了众多的人力物力资源，在经过众多企业的不断努力以后，我们也终于在光刻机、刻蚀机、光刻胶材料等等领域实现了突破；虽然说我们现在还无法与台积电和三星的5nm工艺制程技术相提并论，对此外媒也纷纷表示：中国半导体的发展也早已经“大势已定”！突破90nm光刻机，可量产14nm芯片如今，上海公布了在集成电路领域取得的一些成果，在90nm光刻机领域已经进行了突破，并能生产14nm芯片；而且在5nm先进的蚀刻机领域也已经有所突破，从目前的发展情况来看，不得不说上海“东方芯港”的发展速度还是比较快的；其中上海微电子已经成功的实现了90nm光刻机的突破，而5nm刻蚀机则由中微公司领头破冰，其生产的5nm蚀刻机甚至已经被台积电所采用；而中芯国际经过这么年时间的发展，其N+1和N+2工艺技术应该也早已经能实现14nm芯片的量产！目前来看，现在中国半导体已经“大势已定”，在这些头部芯片企业的不断努力下，在芯片设计、制造、封装三个环节中，我们已经进行了技术突破，除了光刻机和蚀刻机以外，在芯片设计的EDA软件领域，国内的华大九天也已经宣布可以在28nm提供模拟全流程EDA工具；这也让我们不用担心再被EDA工业软件给卡脖子；而在芯片架构领域，国内的阿里、华为海思都已经成功的打造了开源的开源架构RISC-V，另外，国产龙芯中科也自研了LoongArch指令集架构

已成芯片制造的最大短板了

非常好用的一款刻录机，读碟快，而且静音。马达声音很柔和，没有激烈的读盘声音。刻盘稳定。质量不错

事实上，刻蚀机之前也是被美国禁运的，但随着中微公司的先进刻蚀机后，禁运也就没意义了，于是放开了市场，中国厂商可以随便买

而技术相对落后的则是光刻机了，目前上海微电子生产的光刻机，其标注的精度还在90nm

而ASML的光刻机，已经能够生产3nm的芯片了，这中间的差距还是相当大的

众所周知，中国大陆的芯片产业要发展，与台湾省、与韩国、与日本、欧洲、美国等国家和地区的情况都不一样，复杂很多

　　美方不断对他国搞“技术封锁”、“技术脱钩”，不过是提醒了别国“一味依靠美国是不行的”，需要更快实现科技自主、自立自强

　　楼草打兔子、满世界搅局的事儿美国可没少干，披着自由民主之光的皮、行着世界警察之手，冠冕堂皇的面子下有多少是为了霸权主义？　　多行不义必自毙，可别最后面子里子全都丢了

　　ASML是目前全球最大的光刻系统制造商，占据着市场绝对的主导地位，他们的产能决定着全球工艺扩张的速度，更是让诸如三星、台积电等代工龙头为争夺其先进技术打得不可开交

事实上，刻蚀机之前也是被美国禁运的，但随着中微公司的先进刻蚀机后，禁运也就没意义了，于是放开了市场，中国厂商可以随便买

而技术相对落后的则是光刻机了，目前上海微电子生产的光刻机，其标注的精度还在90nm

而ASML的光刻机，已经能够生产3nm的芯片了，这中间的差距还是相当大的

已成芯片制造的最大短板了

读盘声音：声音小 轻薄程度：比较有质感 外形外观：质量看着很好 产品包装：包装完美 读盘速度：运行快 稳定性能：特别稳定

可见，光刻机已经成为了当前我们制造芯片的最大短板了，所以国产光刻机真的要努力才行，不说实现5nm，先实现28nm，再搞定14nm，先实现与其它国产半导体设备一个节点才行，你觉得呢？而只要国产半导体设备有了突破，达到先进水平，禁运也就没有了任何意义，也就会全面放开了，刻蚀机就是最好的例子

读盘速度：读盘速度非常快，即插即用读盘声音：声音小。临时要用，上午下单京东下午就送到了，非常方便。但凡装机几乎必选先锋光驱，用了很多年了，质量一直都很稳定。话说包装设计得蛮漂亮的

综合起来看，要想芯片制造水平达到7nm，需要EDA支持7nm，半导体材料也是支持7nm，半导体设备也支持7nm……而EUV光刻机只是其中的一种设备，就算我们突破了，美国或其它国家一样能够在其它设备、材料上卡住我们，因为目前国产的半导体材料、半导体设备，很多在28nm甚至更成熟的工艺，达到7nm的少之又少

光刻机中国芯

我们也无法顺利制造7nm芯片

目前网络有一种声音，那就是我们必须自研出EUV光刻机，只要自研出EUV光刻机，ASML和美国就卡不住我们的脖子了，芯片就再也不用愁了

但真的自研出EUV光刻机，我们就能够制造出7nm芯片了么？在我看来，仅靠EUV光刻机，是远远不够的，还差得远呢

好久不用光驱了，特殊用途还是有必要的。而且这个性价比比较高 产品包装：这个包装很大气啊，盒子也很大，里面是再生原料减震，看着不错。 外形外观：外观简洁大方，成熟稳重 轻薄程度：正常尺寸的三围 读盘速度：速度平稳，读盘不错 读盘声音：声音还好 稳定性能：目前稳定

按照Zyvex的说法，这台ZyvexLitho1是可以商用的，还可以接受别人的订单，具体多少钱一台，不清楚，但机器对方可以在6个月内出货

虽然可以对外出货，但国厂商，想要买到它，可能就千难万难了，基本不太可能，毕竟EUV光刻机都买不到，更不要说精度更高的电子束光刻机了

稳定性能：很好 读盘速度：很好 外形外观：很好 轻薄程度：很好 读盘声音：很好 产品包装：很好

造出0.7nm芯片

当然，硅基芯片，也不需要这种电子束光刻机，这么高的精度更多还是用于量子计算芯片，制造出一些高精度的量子器件，纳米器材等