滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

京东自营一如既往的好，无论是配送的速度还是到上商品的质量，都非常的不错。 读盘速度：速度很快。光盘放进去，不一会儿就读出来了，很好。 读盘声音：非常的安静。 稳定性能：一直用这个品牌的光驱，性能很好很稳定。 轻薄程度：拿在手里很厚实，非常好。 外形外观：外观比较时尚，很好看。 产品包装：产品的包装比较用心，很简洁，非常好。 京东自营继续加油。

产品收到，销售人员服务非常OK，有耐心，咨询的问题都及时帮忙解决。包括相关产品的技术问题都帮忙解决了。服务品质特优。再次感谢。

光刻机动画

物流很快，买完第二天就到了，现在已经刻了快50张光盘，无一失败，就是不知道能用多久，希望能多用几年

媒体分析称，如果ASML被禁止对华出口DUV，其收入可能会萎缩5%-10%

那么，为什么ASML这样一家光刻机巨头企业，减少要屈服于美国的管制？根据中国科学院ICAC，背后主要有三个原因：1、美国在DUV、EUV技术方面渗入ASML

上午下单，下午不到晚上就到了，配送超快，当地大库发货就是方便，拿着比较轻希望耐用，读盘静音快速，刻录快也很静音，数据写入平稳，没有送刻录软件和数据线，价格便宜，用原有的Nero9赠送版本能识别出新光驱，面板简洁。

收到后只用来放DVD，很好用。运行比较安静。希望耐用。用过才知道，和某品牌同价位的确实不一样，各方面都超出预期，还是非常过硬的东西，必须好评！

先锋的老牌子，质量好，很厚实，韧性好，不易破，耐用。读盘速度：快稳定性能：非常好轻薄程度：薄外形外观：好 精挑细选的。安装上了，很好

公司一直在用这个产品，经久耐用，一直在用，非常好用，也可以购买我们公司的产品。

做工不错，手感很好，刻录功能还没使用，应该用到的机会不多。平时主要用于读DVD盘，便携性很好。 纸盒包装上还有温馨提示，再次核对型号是否正确，方便退换货，很人性化。

据报道，中国台湾 2016 年制定一个目标，到了 2025 年，其中 20% 电力来自可再生能源

然而，从 7 月的最新能源审查显示，截至 2021 年底，只有 6% 电力来自可再生能源，促使其下调 2025 年的目标至 15%

自己几分钟换好了，刻了几个文件试试，很快，也没什么噪音，很不错，但愿能多用一阵子，先好评

读盘速度：非常不错！ 读盘声音：声音小！ 产品包装：包装不错！ 外形外观：外观好看！ 稳定性能：稳定好！ 轻薄程度：合适！

美国人为什么要限制我们购买?

已经收到货了，开箱后使用了几天才来评价，质量不错，读碟快速度，刻录光盘刻录一部超清电影，播放出来，何蓝光碟差不了多少，反复刷两次光盘都一样没变化，打开之后第一感觉就是非常喜欢外观时尚大方，价钱也实惠，性价比高，装上之后车试一下，读碟很好，刻录光盘也很好，很流畅，非常愉快的一次购物，京东真的很不错，下次还会推荐朋友们过来购买

就像原子弹爆炸的原理，早就不是什么国家机密，但真正制造出一枚核弹，却不是那么容易的事情

制造光刻机有哪些困难？首先是光源问题

俄罗斯建议荷兰用光刻机换口罩

帮同事买的，品质一流，狠满意的一次购物。读盘能力强，噪音小，读取速度快，刻录时间和刻录质量稳定，同事都说好。包装完整，物流非常快，超级赞！！

京东快递就是快，昨天晚上下单，第二天上午就到货了，已经安好了，试了一下非常满意。读盘很安静，几乎没有噪音。附送的软件很实用

照例给予好评！给自己给朋友同事亲戚装机多台，常选LG和先锋等品牌光驱。对这两个品牌光驱（刻录机）充满信赖。现在光驱（刻录机）使用频率越来越低，装机后安装原版随机驱动还是光驱（刻录机）比较方便。现在向法院提交视频、图片，也需要刻制光盘，还的满足职业需求。现在的价格常搞活动，也很便宜。

如上图所示，这是4大厂商的光刻机精度

其中用于7nm及以下芯片制造的EUV光刻机，只有ASML能够生产

而尼康能搞定高端的7-28nm的AiF+浸润式光刻机，但佳能、上海微电子却还停留在90nm，只能生产低端的光刻机

因为实践表示，3次曝光会导致良率大幅度下降，4、5次良率可能会低到没法想象，晶圆厂们的成本高到没法承受，不如买一台更高级光刻机，成本还低一些

所以，目前国内在努力的研发28nm的光刻机，这样经过两次曝光后，可以搞定14nm，至于7nm工艺，那最好还是期待EUV光刻机，用28nm的来曝光三次，良率没法看

挺好的，价格公道，先锋刻录机应该是刻录机里面最好的品牌了，很早之前用过一个115ch，用到老化，也只是刻录速度变慢，从来没刻飞过，后来买了别的品牌的，简直是噩梦。京东不错，不怕买到翻新货，价格还公道，不用去电脑城挨宰和被以次充好了。

造出0.7nm芯片

京东效率很高，凌晨拍的，当天就到，刻录效果很好，刻了几张，都没问题，超薄设计，外形炫酷，刻录速度快。

当然，硅基芯片，也不需要这种电子束光刻机，这么高的精度更多还是用于量子计算芯片，制造出一些高精度的量子器件，纳米器材等

光机电一体技术与光刻机

目前的硅基芯片性能提升主要依赖芯片制造工艺的提升，然而业界都清楚硅基芯片的极限是1nm，而目前最先进的芯片制造工艺是3nm却已面临巨大困难，三星的3nm工艺技术更先进但是良率太低，台积电的3nm工艺基于成熟的FinFET技术却导致性能提升有限而成本过高被苹果舍弃

中国的量子技术专家表示量子计算机将不仅限于超级计算机，还将面对商用市场推出通用计算机，到那时候中国科技行业将彻底终结硅基芯片统治芯片行业的历史，中国的芯片技术也将达到世界领先水平，并形成我们自己的技术体系

而前道工序更是重点，有至少8个工序，分别是扩散、薄膜沉积、光刻、刻蚀、离子注入、CMP抛光、金属化、测试

而这里也要用到各种设备，众多的材料，光刻机只是其中的一种设备，这些设备大多和光刻机一样，是有精度要求的，分别要求达到7nm

目前网络有一种声音，那就是我们必须自研出EUV光刻机，只要自研出EUV光刻机，ASML和美国就卡不住我们的脖子了，芯片就再也不用愁了

但真的自研出EUV光刻机，我们就能够制造出7nm芯片了么？在我看来，仅靠EUV光刻机，是远远不够的，还差得远呢