3种替代方案
EBL电子束光刻机,大家可能熟悉了,前段时间美国公司Zyvex,就搞出了一台电子束光刻机(EBL),并制造了768皮米(0.768nm),不过这种光刻方式速度慢,不可能用于在规模芯片制造
而纳米压印光刻技术,目前被佳能押注,目前佳能已经能够提供NIL光刻机,比如东芝,就一直想用NIL光刻机来生产NAND闪存,同时在NIL光刻专利中,佳能遥遥领先
很好,刻碟顺畅,外观经典,包装标准,安装简单,配件齐全,质量可靠,经久耐用。东西很不错,试用了后觉得效果很好,快递速度也很快,收到后整体满意。