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国产芯片国产光刻机开始突破作为芯片制造产业中最重要的一环，光刻机的作用自然非常重要

伴随着芯片产业链上的其他设备如蚀刻机等已经突破至5nm，国产芯片产业也愈发完善，而光刻机也成为最后一个需要攻克的技术难关

光刻机技术取得突破其实国内对于光刻机同样十分重视，早在2006年就开始实施《极大规模集成电路制造技术及成套工艺》项目，其中光刻机在16个重大专项任务中排名第二，因此也被称为“02专项”

如果外国突然不提供光刻机

为了完成光刻机的研发需要多个部门和机构协同合作，国内多个顶级研究院以及大学都参与到了光刻机的研发之中

劲胜智能生产光刻机吗

虽然先进工艺用最短的时间解决了芯片性能的问题，但是很快，新的问题也暴露了出来，那就是成本，先进工艺无论是从芯片的设计还是制造，成本都成倍的提升，这种提升的幅度，即便是全球顶尖的芯片巨头，也都难以承受，例如苹果

而之所以是一条捷径，是因为还没有找到其他更好的办法，这样的情况让台积电和ASML迅速崛起，台积电可以提供最先进的制造工艺，而ASML可以提供支撑最先进工艺的光刻机

在芯片制造上，28纳米晶圆的价格是3000美元，7纳米是10000美元，5纳米是16000美元，3纳米是超20000美元，3纳米晶圆的成本是28纳米的约7倍

办公需要刻录光盘做数据保存，这款读盘能力很强，速度很快，震动不大，有轻微的声音，日常使用基本上不会察觉到；刻录写入时比18x的要快不少，过程很稳定，不会出现数据错误或者写完读不出的情况，购买时还赠送sata数据线，很方便。

突破90nm光刻机

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台积电杀手锏来了：2nm先进制程首亮相

6月16日，台积电在2022年度北美技术论坛上，官宣将推出下一代先进制程N2，也就是2nm制程

2nm来了，终结FinFET一直以来，包括7nm、5nm在内的芯片制程都采用的是FinFET晶体管技术

而且台积电还提到了「小芯片集成」，业界猜测很多使用N2制程的产品，也会使用多块小芯片的打包版来降本增效

简单的白色包装。简单的安装。简单的使用。速度还是很快了。能上25m/s。声音也不算大。信任京东，还没用，应该没问题。物流超快。

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而当谈到是否担心大陆的竞争时，张表示，毕竟大陆可以举国之力发展一个行业，很多行业实现了弯道超车

他表示，大陆企业已与台积电开始竞争，但在制程方面的竞争不是花很多钱、投入举国之力就能做成的

张忠谋还提到了学习曲线，他说：“假如一家公司在一个行业发展得很久，积累的经验就比新的竞争者多，只要自己不糟蹋机会，就可以长期保持优势

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中国5纳米光刻机突破

光刻机是芯片制造环节的一种关键设备，在芯片的工艺制程上，也主要是由光刻机来决定的

根据芯片制造环节的不同，可以分为前道光刻机和后道光刻机，ASML的优势在于前道光刻机，而我国上海微电子的优势，则是后道光刻机

其中决定芯片制程的就是前道光刻机，所以由于ASML使用了部分老美的技术，因此EUV光刻机就受到修改芯片规则的制约，无法出货大陆中企

这在当下晶体管体积越发接近原子体积时，将会越来越突出

而且台积电「环绕栅极式纳米片电晶体管」的通道可以加宽以增加驱动电流并提高性能，也可以缩小以最大限度地降低功耗和成本

为了给这些「纳米片电晶体管」提供足够的电能而且避免漏电损耗，台积电的N2制程使用背面配电线路（backside power rail）

作为全新的芯片制作工艺平台，N2制程的核心创新在于两点：纳米片电晶体管（Nanosheet）与背面配电线路（backside power rail）

据悉日本这次是众多芯片设备企业与日本最大的芯片企业铠侠合作开发了先进的5nm工艺，估计是在原有的NIL工艺基础上研发的，此举对于日本的芯片产业来说具有重大意义，将进一步降低芯片的成本，重振日本的芯片产业

日本开发的NIL工艺是全球第一项无需光刻机的芯片制造工艺，此前已被铠侠用于存储芯片生产，此前日本方面就预计NIL工艺将可以演进至5nm，到去年底日本已将该工艺突破10nm，到如今不到1年时间又突破到5nm，可谓进展神速

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所以就造成了先进工艺芯片的产能过剩，就连国际晶元大厂台积电，都准备在今年关闭4台EUV光刻机，以保证工作量和市场的相互平衡

那么问题来了，既然行业老大都带头减少高端产品的产能了，那为什么佳能还要投入资金增加产能？第一个因素还是跟中美两国有关系，受到美方制裁，我国的半导体行业发展严重受阻，对于芯片的需求量依然很大

由此可见，美国的霸权主义是让美国强盛的因素之一