在2021年年底,台积电正式提出2nm以及后续1nm的工厂扩建计划
预计总投资金额将高达8000亿至1万亿新台币(约1840-2300亿元),占地近100万平方米
另外,台积电1nm研发也取得了一些进展
在2021年,台大与台积电、美国麻省理工学院合作研究发现二维材料结合「半金属铋(Bi)」能达极低电阻,接近量子极限
这项研究成果由台大电机系暨光电所教授吴志毅,与台湾积体电路和MIT研究团队共同完成,已在国际期刊Nature上发表,有助实现半导体1nm以下制程挑战
在2021年年底,台积电正式提出2nm以及后续1nm的工厂扩建计划
预计总投资金额将高达8000亿至1万亿新台币(约1840-2300亿元),占地近100万平方米
另外,台积电1nm研发也取得了一些进展
在2021年,台大与台积电、美国麻省理工学院合作研究发现二维材料结合「半金属铋(Bi)」能达极低电阻,接近量子极限
这项研究成果由台大电机系暨光电所教授吴志毅,与台湾积体电路和MIT研究团队共同完成,已在国际期刊Nature上发表,有助实现半导体1nm以下制程挑战
第二大方案是电子束光刻机(EBL),用高能电子束来替代极紫外线,电子对应的波长只有0.04纳米,加工精度就比EUV又高了不少
目前在这一块比较突出的是美国,前不久前段时间美国公司Zyvex,就搞出了一台电子束光刻机(EBL),并制造了768皮米(0.768nm)
读盘速度:很快 读盘声音:不大 稳定性能:很稳定 轻薄程度:合适 外形外观:完好 产品包装:结实
物流很快,宝贝很好,店家人nice!好评!宝贝质量不错,很喜欢。卖家服务真周到。特意用了两天才来评价。老品牌刻录机,做工精细,外观很有质感,包装严实,声音小,不挑盘。京东送货速度快,售后有保障。
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好使,稳定性能强大,即插即用,很不错的一款产品,给客户买的,收到包装完好,安装简单,读取速度快,很赞
产品收到,销售人员服务非常OK,有耐心,咨询的问题都及时帮忙解决。包括相关产品的技术问题都帮忙解决了。服务品质特优。再次感谢。
那么按照ASML反对不出货的情况来看,出货光刻机到我们国内市场算是基本确定的局面了
这样来看,似乎ASML更加好心了,尽管这根本因素是因为他要抢占住中国这个庞大的市场,完成自己高目标的DUV光刻机出货台数
可问题就来了,之前ASML的工程师颇有些看不起国内自主研发光刻机的事情,甚至在EUV光刻机不能出货上也没有太大的反对态度
外观非常轻薄小巧,颜色是经典的磨砂黑色,手感观感都还不错。产品外包装中规中矩,上开式的打开方式很特别,还有很人性化的防锁死按钮,整体设计很到位。读盘声音安静,读写速度目前还没有特别感觉,使用后再来追评。
京东效率很高,凌晨拍的,当天就到,刻录效果很好,刻了几张,都没问题,超薄设计,外形炫酷,刻录速度快。
读盘速度:读盘速度是非常的快,光盘放进去之后,机器反应非常灵敏。? 读盘声音:读盘的声音比较小,而且声音很稳定。? 稳定性能:性能很稳定,读盘的时候声音很稳定。 轻薄程度:这不是轻薄的光驱,这种光驱现在很难买了。幸好先锋还在生产。这一种平置式要比那种超薄的效果要好。? 外形外观:做工非常好,一看就是大厂的东西。? 产品包装:包装非常好,一看就是大厂的东西。让人放心。
这两种技术的结合,在一定程度上减少了先进工艺的采用,因为这种新技术不仅降低了成本,同样可以做到芯片性能的提升,本质上来说,还是因为在芯片的设计环节起到了关键作用,而现在,复旦大学在芯片的底层技术,也就是晶体管技术上实现了突破
在芯片设计上,28纳米工艺只需要4280万美元,7纳米则需要2.486亿美元,3纳米已经需要5.811亿美元,2纳米预计需要7.248亿美元,所以一颗3纳米芯片的设计成本,就是28纳米工艺的近14倍,超40亿人民币
京东自营一如既往的好,无论是配送的速度还是到上商品的质量,都非常的不错。 读盘速度:速度很快。光盘放进去,不一会儿就读出来了,很好。 读盘声音:非常的安静。 稳定性能:一直用这个品牌的光驱,性能很好很稳定。 轻薄程度:拿在手里很厚实,非常好。 外形外观:外观比较时尚,很好看。 产品包装:产品的包装比较用心,很简洁,非常好。 京东自营继续加油。
许多原本购买徐端颐团队投影光刻机的公司,纷纷取消了订单
本身就落后,且没有什么市场的国产光刻机,此时处境更加尴尬
事实上,如今的ASML虽然是全球最大的光刻机企业,但是日本光刻机仍然占有近四成的市场份额,随着日本光刻机企业从中国市场斩获大笔订单,ASML担忧2005年之前日本光刻机占有全球光刻机市场八成份额的现象重演
再有就是日本和中国在先进芯片技术方面的进展,日本芯片行业一直都在研发绕开EUV光刻机的芯片制造工艺,它此前取得成功的NIL工艺已被铠侠采用,如今NIL工艺已突破10nm;中国则在光量子芯片技术方面取得进展,中国已有企业筹建光子芯片和量子芯片生产线,一旦商用将让ASML的光刻机无用武之地
因为低一档次的DUV光刻机,我们自己的产业已经初具雏形
据公开信息显示,上海微电子自研的28nm光刻机即将进入生产车间,且这款光刻机能够制造出14nm芯片,这也是为什么DUV光刻机没有被纳入到瓦森纳协定中,没有禁止向中国出口
“中国不太可能独立复制出顶尖的光刻技术
”不过这样说完之后,他还是做了补充:“这也并不是绝对不可能,因为中国的物理定律和我们这里是一样的”
对此王传福更是直接回怼,光刻机是人造的,不是神造的
Peter Wennink ASML CEO这里阿斯麦老板提到的是顶尖的光刻技术,就是EUV
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