滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

因为发现别的品牌读盘能力都有不足，选了很多款，最终发现还是先锋的适应性更好！买了，确实不错！之后再买，就这个牌子了，店家发货很快，收藏店家，以后常来！

不再向美限令妥协!首台ASML光刻机已搬入中企

非常小巧的产品，出乎意料特别的轻，有一种不能置信的感觉。具体速度还是可以的，质量自然刚刚的，过去一直使用这个品牌，今次也不例外。声音很安静，基本没有振动，当然我有适合的防震设备。很适合外带的小家伙，移动方便。

是正品，速度快，刻盘稳定，稳定才是王道，不会坏盘，很满意。买给客户的，对方很满意，刻录速度比较快，声音小，很实用

刻录机光驱质量不错?，刻录效果非常不错?价格合理，京东商城网购放心。很好用，携带方便，而且刻录速度非常快

上海微电子22纳米光刻机

读盘速度：很快 读盘声音：不大 稳定性能：很稳定 轻薄程度：合适 外形外观：完好 产品包装：结实

全球抛弃EUV光刻机

再次是财大气粗的台积电也一反常态不在抢购EUV光刻机，台积电当下的先进工艺制程产能过剩，而客户由于全球芯片行业衰退而转向选择成熟工艺，为了增强竞争优势，台积电建立“3D Fabric”联盟，以3D封装技术提高成熟工艺的性能降低成本

在光存储这个领域中，日本的先锋品牌的确独树一帜，稳定高效，特别是在刻录行业中质量真的是杠杠的，前置面板大黑，尽显优雅高贵，LOGO是白色的，装在机箱中大气豪华，这个品牌的刻录光驱可以放心的使用好多年，值得信赖。读盘速度：速度很快，质量挺好。读盘声音：声音小没噪音稳定性能：很稳定。轻薄程度：适中吧外形外观：外观都一样产品包装：包装结实!

荷兰2纳米光刻机

据悉，洁净室项目累计投资120亿，目的是为了实现功率半导体芯片国产化

功率半导体又被称为“电动车心脏”，目前我国新能源正高速发展，如在核心技术实现国产化，未来有机会成该领域领军者

和联想办公电脑完美兼容。刻录光驱所用CD-R(即英文的***pact Disc Recordable)盘的容量一般为700**.它上面所记载资料的方式与一般CD光盘片是一样的，也是利用激光束的反射来读取资料，所以CD-R盘片可以放在CD-ROM上读取，不同的是CD-R盘可以写一次。这次买的先锋老品牌，和Nero10.0软件完美兼容，非常稳定，快。价格也很便宜，性价比非常之好了。

今天的故事仍然从这里开始

长光集团其中，公众最为熟悉的恐怕当属成立于2018年的北京国望光学科技有限公司，它的产业化继承了长春光机所02专项的DUV光刻机曝光光学系统

芯片制造是一个非常复杂的流程，涉及到几十种设备，上百道工序，主要可以分为单晶硅片制造、前道工序、后道工序这三部分

单晶硅片涉及到各种半导体材料，目前国内整体半导体材料的自给率不足20%，特别是14nm以下的半导体材料自给率就更低，高度依赖国外进口

先锋6X蓝光刻录机外观很美观，做工精细超薄的外表很喜欢，Type-c接口比较通用的接口， 吸入式/支持BD读写/兼容Windows/MAC双系统，支持千年光盘/BDR-XS07CS，正在使用中

光驱配光盘，一起下单，双十一真是优惠到爆炸，比平时便宜太多。这款光驱稳定性很好，支持老式电脑，读盘速度快，，声音小，，非常满意！

中国的光刻机现在达到多少纳米了

京东快递真快，为什么没塑封，是消毒吗，made in china。外表完好，一会儿试试吧，非常轻，都1000多了，AC适配器也不给一个

　　1961年，美国GCA公司制造出了第一台接触式光刻机

而一个广为流传的说法是，1966年，中科院下属109厂就与上海光学仪器厂协作，研制成功了我国第一台65型接触式光刻机

在东京买原装正品未拆封，好东西非常方便就开始使用了，外观也漂亮，轻薄设计、金属外壳黑色烤漆，看着就喜欢。 读盘速度：正常 读盘声音：轻 稳定性能：刚刚才用，感觉蛮稳定的 轻薄程度：轻薄设计，感觉舒服 外形外观：有金属感，漂亮 产品包装：完整、原装正品未拆封

宝贝包装严实，物流很快，运转起来也比较流畅， 复制光盘上的文件很好，总体感觉不错，有需要的 可以下手啦！

一直用先锋刻录机，非常满意的一次网购 读盘速度：快 外形外观：好 稳定性能：好 轻薄程度：-好 产品包装：好 读盘声音：非常小

不过美国可不想看到这情况，于是便利用政治手段，试图切断中国与阿斯麦之间的正常生意往来

而美国同时还对本国企业进行限制，更是出台法案禁止美国企业向中国出售部分芯片

不过中国这么庞大的市场，这么大一块蛋糕，作为商人肯定不会就此放弃

早前美国一家精密制造企业Zyvex Labs就宣布研发成功光刻机系统，它舍弃了ASML等光刻机企业所采用的紫外光，而采用了电子束（EBA）刻印电路，精度远超采用极紫外线的EUV光刻机，工艺制程可以达到0.768nm，这对于ASML更是重大打击

正是由于成本问题，日本、美国的芯片行业才寻求发展无需EUV光刻机的芯片制造工艺，降低成本

此前ASML顺应美国的要求不对中国出售EUV光刻机，今年下半年更进一步连14nm以下的DUV光刻机都不对中国出售，然而如今日本和美国都绕开EUV光刻机，将彻底颠覆ASML的主业--光刻机业务

而要生产2nm的芯片，数值孔径要变为0.55NA，也就是解析度（精度）为8nm，这样可以更更快更好地曝光更复杂的集成电路图案，同时单次构图间距低于30nm

这种新的EUV光刻机叫做型号，就叫做EXE:5200，目前ASML已经有了规划，预计在2024年底，或者2025年交付

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不过据称，NXE:3600D型号的EUV光刻机，支持的工艺可能仅到3nm，如果要制造2nm的芯片，光刻精度还要提升，需要新一代的High-NA极紫外光刻机才行