滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

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光刻机匹配精度

事实上，刻蚀机之前也是被美国禁运的，但随着中微公司的先进刻蚀机后，禁运也就没意义了，于是放开了市场，中国厂商可以随便买

而技术相对落后的则是光刻机了，目前上海微电子生产的光刻机，其标注的精度还在90nm

而ASML的光刻机，已经能够生产3nm的芯片了，这中间的差距还是相当大的

那么问题来了，当前国产半导体设备中，技术最先进的是哪一种，技术相对最落后的又是哪一种呢？上图这张图，其实说得非常明白了

刻蚀机应该是当前国产半导体设备中，唯一达到国际先进水平的，已经达到了5nm

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稳定性能：不错 读盘速度：很快 外形外观：还好 轻薄程度：适中 产品包装：精美 读盘声音：很轻

多家西方媒体报道称，美国也在鼓动和拉拢盟友加入打压中国半导体的阵营

彭博社提到，美国负责工业和安全的商务部副部长艾伦·埃斯特维兹本月将前往荷兰讨论出口管制问题

美方不仅施压荷兰政府拒绝批准阿斯麦公司向中国出售最先进的光刻机，还一直试图要求禁止该公司对华销售部分旧款光刻机

非常好，读碟很快，刻录速度快也很稳定，送货神速。好评！先锋刻录机，装进去马上能用。老品牌值得信赖！和我的酷冷至尊机箱很匹配。

买了三个光驱，反馈都很不错，声音小，噪声小，刻盘的速度很快，跟之前的光驱比的确不是一个档次，之前光驱识别光盘都很困难，这个很快就能识别出来，真的是大赞。京东速度还是一如既往地快，让人赞不绝口，以后还是继续支持京东?

大家都知道光刻机是芯片制造过程中，最重要的设备之一

但大家不清楚的是，光刻机也分前道光刻机，后道光刻机两种

前道光刻机，主要是指将芯片电路图，光刻到硅晶圆上的光刻机，也就是芯片制造的前道工序号需要的光刻机，也称之为前道光刻机，其中又分EUV光刻机、DUV光刻机，UV（i-line）光刻机

EBL电子束光刻机，大家可能熟悉了，前段时间美国公司Zyvex，就搞出了一台电子束光刻机(EBL)，并制造了768皮米（0.768nm），不过这种光刻方式速度慢，不可能用于在规模芯片制造

而纳米压印光刻技术，目前被佳能押注，目前佳能已经能够提供NIL光刻机，比如东芝，就一直想用NIL光刻机来生产NAND闪存，同时在NIL光刻专利中，佳能遥遥领先

EUV光刻机太难太贵

光刻机精度历史

上午下单，下午不到晚上就到了，配送超快，当地大库发货就是方便，拿着比较轻希望耐用，读盘静音快速，刻录快也很静音，数据写入平稳，没有送刻录软件和数据线，价格便宜，用原有的Nero9赠送版本能识别出新光驱，面板简洁。

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被美国彻底打醒!俄罗斯全力以赴研发7nm光刻机

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不只光刻机

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而之所以是一条捷径，是因为还没有找到其他更好的办法，这样的情况让台积电和ASML迅速崛起，台积电可以提供最先进的制造工艺，而ASML可以提供支撑最先进工艺的光刻机

虽然基础薄弱、一切从零开始，但是在无数先辈的日夜努力之下，中国光刻机还是赢得了一个比较好的起点

真正尴尬的是，虽然有了国产光刻机，但是科研成果不代表批量化生产的能力，产业化一直停滞不前

1977年7月，人民大会堂举行的科教工作者座谈会上，半导体灵魂人物王守武直言：“全国共有600多家半导体生产工厂，其一年生产的集成电路总量，只等于日本一家大型工厂月产量的十分之一

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